[发明专利]一种基于单轴加载的二级增压装置

权利要求书

1.一种基于单轴加载的二级增压装置，包括：砧面相对的两个一级压砧，位于两个一级压砧砧面之间的封垫，在所述封垫内位于两个一级压砧相对砧面的部分打孔作为一级压腔，其特征在于：在所述一级压腔内设有外径小于或等于一级压腔内径的二级增压环，在所述二级增压环的上下开口分别设直径与二级增压环内径相等或略小的二级增压片，所述二级增压环和二级增压片围成装放样品的二级样品腔，装样加压后两个二级增压片的部分或全部嵌于二级增压环中。

2.根据权利要求1所述的一种基于单轴加载的二级增压装置，其特征在于：所述二级增压环和二级增压片由单晶或多晶金刚石、立方氮化硼制成。

3.根据权利要求1或2任一项所述的一种基于单轴加载的二级增压装置，其特征在于：所述一级压腔的直径为2～20mm。

4.根据权利要求3所述的一种基于单轴加载的二级增压装置，其特征在于：所述二级增压环的内径为1～10mm。

5.根据权利要求4所述的一种基于单轴加载的二级增压装置，其特征在于：所述二级样品腔的高度为0.1～5mm。