[发明专利]基底层、具有基底层的研磨垫及研磨方法

说明书

本发明提供一种基底层、具有基底层的研磨垫及研磨方法。研磨垫包括研磨层以及基底层。基底层配置于研磨层下方，系为立体三维织物，包括上织物层、下织物层以及支撑织物层。支撑织物层位于上织物层以及下织物层之间，其中，上织物层与下织物层分别是由多条第一组纱及多条第二组纱互相交织而形成，支撑织物层是由多条支撑纱所形成且穿梭配置于上织物层与下织物层之间，以使上织物层与下织物层之间具有空间。

技术领域

本发明涉及一种基底层、具有基底层的研磨垫及研磨方法，尤其涉及一种具有立体三维织物的基底层、具有前述基底层的研磨垫及研磨方法。

背景技术

随着产业的进步，平坦化处理经常被采用为生产各种元件的处理。在平坦化处理中，研磨处理经常为产业所使用。研磨处理是将研磨物件吸附于研磨系统的研磨头，并施加一压力以将其压置于研磨垫上，且让研磨物件与研磨垫彼此进行相对运动，而使其表面逐渐平坦，来达到平坦化的目的。此外，也可选择于研磨过程中，供应具有化学品混合物的研磨液于研磨垫上，在机械效应与化学效应共同作用下，达成平坦化研磨物件表面。

目前产业所使用的研磨垫中，因应特定研磨处理需求所选择的研磨垫具有多层构造，研磨垫包括有研磨层与基底层，其中基底层黏着于研磨层下方并固定于研磨平台上。为了使研磨处理得到较佳的研磨均匀度，研磨垫的基底层通常选择具有较大压缩性的材料，基底层的材料例如为具有多孔性结构。一般产业所使用的研磨垫包括的基底层大致上可分为两大类：不织布含浸树脂材料以及发泡材料。然而，这些传统基底层平行于研磨面方向(也就是X-Y轴方向)的抗拉强度(Tensile Strength)与垂直于研磨面方向(也就是Z轴方向)的压缩率无法兼顾。举例而言，压缩率较大的基底层可提供较佳的缓冲能力，但其抗拉强度相对较小，也就是说，当研磨垫受研磨处理的应力作用时，基底层在X-Y轴方向的形变量较高，因此可能在研磨层与基底层的界面或是基底层与研磨平台的界面造成脱层，或在界面产生气泡而影响研磨垫的稳定性，甚至是造成研磨物件刮伤或破损。

因此，仍需要有一种研磨垫，其基底层能兼顾压缩率与抗拉强度，以提高研磨的稳定性，以提供产业所选择。

发明内容

本发明提供一种基底层、具有基底层的研磨垫及研磨方法，使研磨垫的研磨稳定性提高。

本发明所提供的基底层，适用于衬垫研磨垫的研磨层，基底层系为立体三维织物，包括上织物层、下织物层以及支撑织物层。支撑织物层位于上织物层以及下织物层之间，其中，上织物层与下织物层分别是由多条第一组纱及多条第二组纱互相交织而形成，支撑织物层是由多条支撑纱所形成且穿梭配置于上织物层与下织物层之间，以使上织物层与下织物层之间具有空间。

本发明所提供的基底层，适用于衬垫研磨垫的研磨层，基底层系为立体三维织物，其中，基底层的平均抗拉强度大于50kgf/cm²且压缩率大于11％。

本发明所提供的研磨垫，包括研磨层以及基底层。基底层配置于研磨层下方，系为立体三维织物，包括上织物层、下织物层以及支撑织物层。支撑织物层位于上织物层以及下织物层之间，其中，上织物层与下织物层分别是由多条第一组纱及多条第二组纱互相交织而形成，支撑织物层是由多条支撑纱所形成且穿梭配置于上织物层与下织物层之间，以使上织物层与下织物层之间具有空间。

本发明所提供的研磨垫，包括研磨层以及基底层。基底层配置于研磨层下方，系为立体三维织物，其中，基底层的平均抗拉强度大于50kgf/cm²且压缩率大于11％。

本发明所提供的研磨方法，适于用以研磨物件，包括提供以上所述的研磨垫；对物件施加压力以压置于研磨垫上；以及对物件及研磨垫提供相对运动。

基于上述，由于本发明的研磨垫包括研磨层以及基底层，且基底层是由立体三维织物所构成，以提高研磨的稳定性。

为让本发明的上述特征和优点能更明显易懂，下文特举实施例，并配合附图作详细说明如下。