[发明专利]基底层、具有基底层的研磨垫及研磨方法

权利要求书

1.一种基底层，适用于衬垫研磨垫的研磨层，其特征在于：所述基底层系为立体三维织物，包括：

上织物层；

下织物层；以及

支撑织物层，位于所述上织物层以及所述下织物层之间，

其中，所述上织物层与所述下织物层分别是由多条第一组纱及多条第二组纱互相交织而形成，所述支撑织物层是由多条支撑纱所形成且穿梭配置于所述上织物层与所述下织物层之间，以使所述上织物层与所述下织物层之间具有空间。

2.根据权利要求1所述的基底层，其特征在于，所述立体三维织物具有规则性重复排列的三维结构。

3.根据权利要求1所述的基底层，其特征在于，所述多个第一组纱及所述多个第二组纱分别在X-Y轴所构成平面方向上延伸，并以具有规则性重复排列方式互相交织成网格。

4.根据权利要求3所述的基底层，其特征在于，所述网格的形状包括方格形、菱形、平行四边形、三角形、六角形、八角形、或其组合。

5.根据权利要求1所述的基底层，其特征在于，所述上织物层与所述下织物层为紧密交织或非紧密交织。

6.根据权利要求1所述的基底层，其特征在于，所述多个支撑纱与所述上织物层与所述下织物层的至少部份所述多个第一组纱或所述多个第二组纱交织。

7.根据权利要求1所述的基底层，其特征在于，所述多个支撑纱在Z轴方向上延伸，并以具有规则性的方式重复排列。

8.根据权利要求1所述的基底层，其特征在于，所述多个支撑纱为不具有内部交织型态或具有内部交织型态。

9.根据权利要求8所述的基底层，其特征在于，所述多个支撑纱为不具有内部交织型态，且其所构成的排列方式为多方向弧状、同方向弧状、环状、螺旋状、直线状、或其组合。

10.根据权利要求8所述的基底层，其特征在于，所述多个支撑纱为具有内部交织型态，且其内部交织的形状为X形、S形、三角形、四角形、六角形、或其组合。

11.根据权利要求1所述的基底层，其特征在于，所述立体三维织物的材料包括聚酯纤维、耐龙纤维、弹性纤维、玻璃纤维、碳纤维、凯芙拉纤维、天然纤维、或其组合。

12.一种基底层，适用于衬垫研磨垫的研磨层，其特征在于：所述基底层系为立体三维织物，包括：

上织物层；

下织物层；以及

支撑织物层，位于所述上织物层以及所述下织物层之间，且所述基底层的平均抗拉强度大于50kgf/cm²且压缩率大于11％。

13.根据权利要求12所述的基底层，其特征在于，所述立体三维织物具有规则性重复排列的三维结构。

14.根据权利要求12所述的基底层，其特征在于，所述立体三维织物的材料包括聚酯纤维、耐龙纤维、弹性纤维、玻璃纤维、碳纤维、凯芙拉纤维、天然纤维、或其组合。

15.一种研磨垫，其特征在于，包括：

研磨层；以及

基底层，配置于所述研磨层下方，所述基底层系为立体三维织物，包括：

上织物层；

下织物层；以及

支撑织物层，位于所述上织物层以及所述下织物层之间，

其中，所述上织物层与所述下织物层分别是由多条第一组纱及多条第二组纱互相交织而形成，所述支撑织物层是由多条支撑纱所形成且穿梭配置于所述上织物层与所述下织物层之间，以使所述上织物层与所述下织物层之间具有空间。

16.根据权利要求15所述的研磨垫，其特征在于，所述立体三维织物具有规则性重复排列的三维结构。