[发明专利]一种OLED器件的薄膜封装结构及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种OLED器件的薄膜封装结构及其制备方法，属于OLED器件封装领域。

背景技术

OLED(有机电致发光二极管)等自发光器件具有自发光、视角广、寿命长和节能环保等特点，目前OLED显示器与照明行业发展迅速，已成为重要的显示设计。

其中薄膜封装是一种优选的应用于类似OLED等自发光器件的封装方式，其通过在OLED基板表面沉积各功能层薄膜，达到隔水氧的目的，无须使用其他盖板，易于实现柔性显示。

然而，现有薄膜封装存在的主要问题是水氧渗透率目前还比较难达到量产标准。水氧的主要渗透模式有两种(如图1所示)：

1.通过阻挡层(Barrier Layer)间的气孔(Pin hole)进行渗透；

2.表面的颗粒(Particle)造成的缺陷渗透。

因此，本发明提出一种新型薄膜封装结构，用于改善渗透模式1，降低薄膜的水氧渗透率，提升封装效果。

发明内容

本发明的目的是针对现有技术存在的技术问题，提供一种OLED器件的薄膜封装结构，通过在缓冲层中掺有无机疏水颗粒，使水氧在薄膜封装结构中的渗透路径变长或者难以形成，从而延缓水氧的渗透，达到改善水氧渗透、提高封装效果的目的。本发明同时还提供了一种OLED器件的薄膜封装结构的制备方法，本方法操作简单，原料易得，易于大规模工业化生产。

根据本发明的一个方面，提供了一种OLED器件的薄膜封装结构，包括：

位于OLED基板上的底层无机薄膜层和顶层无机薄膜层；在所述底层无机薄膜层和顶层无机薄膜层之间，设有一个或多个有机缓冲层；

其中，至少一个有机缓冲层内掺有无机疏水颗粒。

根据本发明的一些实施方式，对于所述无机疏水颗粒没有特别的限定，可为本领域任何疏水的无机颗粒。优选包括氮化硅、氧化硅和氮化铝中的至少一种。

根据本发明的优选实施例，所述无机疏水颗粒的粒径为0.1-0.5μm。

根据本发明的一个实施例，所述掺有无机疏水颗粒的有机缓冲层中无机疏水颗粒的质量含量为15％-40％，优选为20％-35％。

如图2所示，在掺有无机疏水颗粒的有机缓冲层中，由于无机疏水颗粒疏水，水氧的渗透需要避开无机疏水颗粒，因此渗透途径更长，更难形成，从而降低了渗透效率。

根据本发明的优选实施方式，当存在多个有机缓冲层时，所述多个有机缓冲层之间通过无机薄膜层相互隔开。

根据本发明的另一个方面，提供了一种上述薄膜封装结构的制备方法，包括：

步骤A：在OLED基板上制备无机薄膜层；

步骤B：在所述无机薄膜上制备有机缓冲层；

步骤C：在所述有机缓冲层上制备无机薄膜层；

步骤D：任选地，重复步骤B和步骤C；

其中，至少一个有机缓冲层内掺有无机疏水颗粒。

根据本发明的一些实施方式，所述无机薄膜层通过化学气相沉积法或原子层沉积法制备。

根据本发明的优选实施例，所述无机薄膜层的制备方法具体包括：通过化学气相沉积法或原子层沉积法将无机材料沉积在无机薄膜载体上，制备无机薄膜层。

根据本发明的一个优选实施例，所述无机材料包括金属氧化物，优选包括氮化硅、氧化硅、碳氮化硅和氧化铝中的至少一种。

根据本发明的一些优选实施例，所述无机薄膜载体包括OLED基板和有机缓冲层。

根据本发明的一些实施方式，所述有机缓冲层通过溶液成膜法制备。

根据本发明的优选实施例，所述有机缓冲层的制备方法具体包括：

将无机疏水颗粒加入有机溶剂中，混合均匀，配制有机缓冲层膜液；

通过溶液成膜法将所述有机缓冲层膜液在所述无机薄膜上制备有机缓冲层。

根据本发明的一个优选实施例，所述有机溶剂选自丙烯酸类(Acrylic)、六甲基二甲硅醚、聚丙烯酸酯类、聚碳酸脂类和聚苯乙烯等。

根据本发明的一个优选实施例，对于所述膜液的配制方法没有特别的限定，例如可对加入了无机疏水颗粒的有机溶剂进行超声震荡或搅拌等处理，配制有机缓冲层膜液。

根据本发明的优选实施方式，可任选地重复步骤B和步骤C一次或多次，以在所述底层无机薄膜层和顶层无机薄膜层之间制备多个有机缓冲层。

根据本发明的一个实施方式，至少一个有机缓冲层的膜液中含有无机疏水颗粒。

本发明的一个优选实施例，所述无机疏水颗粒包括氮化硅、氧化硅和氮化铝中的至少一种。

根据本发明的一些实施方式，所述无机疏水颗粒的粒径为0.1-0.5μm。