[发明专利]OLED显示面板及其制作方法和应用在审
申请号: | 201710329789.9 | 申请日: | 2017-05-11 |
公开(公告)号: | CN107968106A | 公开(公告)日: | 2018-04-27 |
发明(设计)人: | 陈亚文 | 申请(专利权)人: | 广东聚华印刷显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/56 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司44224 | 代理人: | 林青中 |
地址: | 510000 广东省广州市广州*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | oled 显示 面板 及其 制作方法 应用 | ||
技术领域
本发明涉及有机电致发光技术领域,尤其涉及一种OLED显示面板及其制备方法和应用。
背景技术
随着显示面板朝着轻薄、低能耗、便携带的趋势发展,以有机电致发光二极管(Organic Light-Emitting Diode,OLED)为代表的新一代显示技术受到了越来越广泛的关注。相比于液晶显示器(Liquid Crystal Display,LCD)显示技术,OLED具有轻薄、低功耗、低驱动电压、更良好的视角和对比度、以及更快的响应速度等优点。
目前的OLED显示面板实现全彩显示的主流方法为:WOLED(White Organic Light-Emitting Diode,白光有机发光二极管)+CF(Color Filter,彩色滤光膜)或FMM蒸镀(精细金属掩膜板蒸镀)或IJP RGB(Ink-jet Printing RGB三原色喷墨印刷),无论哪种方法,所制备的OLED元器件中都有共用的common layer层(共通层),尤其是蒸镀工艺,为了减小工序节约成本,需尽可能多的使用common layer。目前,市场上现有的OLED面板主要包括玻璃基板、薄膜晶体管(Thin Film Transistor,TFT)、像素电极、电荷注入层、电荷传输层、发光层和顶电极等构成,其中的电荷注入层和电荷传输层均为common layer,从而仅发光层部分需要精细mask,大大节约了制作工序和成本。但是,在现有技术中,由于common layer一般为电荷传输层,当OLED元器件工作时,由于各个元器件的common layer是相连的,且common layer具有良好的电荷传输性能,容易引起横向漏电流,进而影响整个OLED显示面板的显示效果。
发明内容
基于此,有必要提供一种OLED显示面板,该显示面板能减小共通层产生的横向漏电流,提高显示面板的显示效果。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
OLED显示面板,包括:
基板;
形成于所述基板上的像素电极层,所述像素电极层具有多个像素电极;
形成于所述像素电极层上的像素界定层,所述像素界定层包括多个与所述像素电极对应的像素区域和多个像素间隔区域,相邻的两个所述像素区域通过所述像素间隔区域彼此间隔开;
形成于所述像素界定层上且位于所述像素间隔区域的间隔层;
在所述像素电极背离所述基板的表面依次形成的第一共通有机层、发光层和第二共通有机层;所述发光层对应于所述像素区域,所述第一共通有机层和所述第二共通有机层均覆盖所述像素区域和所述像素间隔区域;所述第一有机共通层被所述间隔层完全隔断,所述第二共通有机层被所述间隔层部分隔断;
所述间隔层的厚度大于所述第一共通有机层的厚度,且小于所述第一共通有机层和第二共通有机层的厚度之和;
形成于所述第二共通有机层背离基板一侧的顶电极。
在其中一个实施例中,所述间隔层的横截面为倒梯形,且靠近所述像素界定层的两个内角中至少有一个大于90°。
在其中一个实施例中,所述间隔层靠近像素界定层的两个内角均大于90°,且小于或等于135°。
在其中一个实施例中,所述间隔层的材质为有机材料。
在其中一个实施例中,所述间隔层的材质为聚酰亚胺树脂、聚苯乙烯树脂、聚(甲基)丙烯酸树脂和有机硅中的一种或多种。
在其中一个实施例中,所述第一共通有机层为载流子注入层、载流子传输层、载流子阻挡层和激子限定层中的一层或多层;所述第二共通有机层为载流子注入层、载流子传输层、载流子阻挡层和激子限定层中的一层或多层。
在其中一个实施例中,所述OLED显示面板为正置结构器件,所述第一共通有机层为空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层和、激子限定层中的一层或多层,所述第二共通有机层为电子注入层、电子传输层、空穴阻挡层和激子限定层中的一层或多层。
在其中一个实施例中,所述OLED显示面板为倒置结构器件,所述第一共通有机层为电子注入层、电子传输层、空穴阻挡层和激子限定层中的一层或多层,所述第二共通有机层为空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层和激子限定层中的一层或多层。
在其中一个实施例中,所述像素界定层的厚度为0.5μm~2μm。
本发明的另一目的是提供上述OLED显示面板的制作方法,包括以下步骤:
提供基板,所述基板具有TFT驱动阵列;
于所述基板上制作形成像素电极层,所述像素电极层具有多个像素电极;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的