[发明专利]OLED显示面板及其制作方法和应用

权利要求书

1.OLED显示面板，其特征在于，包括：

基板；

形成于所述基板上的像素电极层，所述像素电极层具有多个像素电极；

形成于所述像素电极层上的像素界定层，所述像素界定层包括多个与所述像素电极对应的像素区域和多个像素间隔区域，相邻的两个所述像素区域通过所述像素间隔区域彼此间隔开；

形成于所述像素界定层上且位于所述像素间隔区域的间隔层；

在所述像素电极背离所述基板的表面依次形成的第一共通有机层、发光层和第二共通有机层；所述发光层对应于所述像素区域，所述第一共通有机层和所述第二共通有机层均覆盖所述像素区域和所述像素间隔区域；所述第一有机共通层被所述间隔层完全隔断，所述第二共通有机层被所述间隔层部分隔断；

所述间隔层的厚度大于所述第一共通有机层的厚度，且小于所述第一共通有机层和第二共通有机层的厚度之和；

形成于所述第二共通有机层背离基板一侧的顶电极。

2.根据权利要求1所述的OLED显示面板，其特征在于，所述间隔层的横截面为倒梯形，且靠近所述像素界定层的两个内角中至少有一个大于90°。

3.根据权利要求3所述的OLED显示面板，其特征在于，所述间隔层靠近像素界定层的两个内角均大于90°，且小于或等于135°。

4.根据权利要求1～3任一所述的OLED显示面板，其特征在于，所述间隔层的材质为有机材料。

5.根据权利要求4所述的OLED显示面板，其特征在于，所述间隔层的材质为聚酰亚胺树脂、聚苯乙烯树脂、聚(甲基)丙烯酸树脂和有机硅中的一种或多种。

6.根据权利要求1～3任一所述的OLED显示面板，其特征在于，所述第一共通有机层为载流子注入层、载流子传输层、载流子阻挡层和激子限定层中的一层或多层；所述第二共通层为载流子注入层、载流子传输层、载流子阻挡层和激子限定层中的一层或多层。

7.根据权利要求1～3任一所述的OLED显示面板，其特征在于，所述OLED显示面板为正置结构器件或倒置结构器件，所述正置结构器件的所述第一共通有机层为空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层和激子限定层中的一层或多层，所述正置结构器件的所述第二共通有机层为电子注入层、电子传输层、空穴阻挡层和激子限定层中的一层或多层；所述倒置结构器件的所述第一共通有机层为电子注入层、电子传输层、空穴阻挡层和激子限定层中的一层或多层，所述倒置结构器件的所述第二共通有机层为空穴注入层、空穴传输层、电子阻挡层和激子限定层中的一层或多层。

8.根据权利要求1～3任一所述的OLED显示面板，其特征在于，所述像素界定层的厚度为0.5μm～2μm。

9.权利要求1-8任一项所述的OLED显示面板的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供基板，所述基板具有TFT驱动阵列；

于所述基板上制作形成像素电极层，所述像素电极层具有多个像素电极；

于所述像素电极层上沉积像素界定层材料，蚀刻后形成像素界定层，所述像素界定层具有多个与所述像素电极对应的像素区域和多个像素间隔区域，相邻的两个所述像素区域通过所述像素间隔区域彼此间隔开；

于所述像素界定层上的所述像素间隔区域制作形成间隔层；

沉积第一共通有机层，所述第一共通有机层覆盖所述像素区域和所述像素间隔区域，且被所述间隔层隔断；

于所述第一共通有机层上沉积发光层，所述发光层对应于所述像素区域；

沉积第二共通有机层，所述第二共通有机层覆盖所述像素区域和所述像素间隔区域，且覆盖所述间隔层；所述间隔层的厚度大于所述第一共通有机层的厚度，且小于所述第一共通有机层和第二共通有机层的厚度之和；

沉积顶电极，形成连续的顶电极。

10.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-8任一项所述的OLED显示面板。