[发明专利]针对规则mura的修复处理方法、补偿装置及液晶显示器有效
申请号: | 201710326322.9 | 申请日: | 2017-05-10 |
公开(公告)号: | CN106952629B | 公开(公告)日: | 2020-01-31 |
发明(设计)人: | 张华 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G09G3/36 | 分类号: | G09G3/36 |
代理公司: | 44265 深圳市德力知识产权代理事务所 | 代理人: | 林才桂;刘巍 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 针对 规则 mura 修复 处理 方法 补偿 装置 液晶显示器 | ||
本发明涉及针对规则mura的修复处理方法、补偿装置及液晶显示器。该修复处理方法包括:步骤10、计算出每个像素点所需的mura补偿数据;步骤20、根据每个像素点所需的mura补偿数据在三维上的分布图形,计算出最佳匹配的mura曲面表达公式并存储在闪存中;步骤30、在闪存中存储一些固定位置像素的mura补偿数据;步骤40、时序控制芯片读取该闪存中的mura补偿数据及mura曲面表达公式,根据输入的灰阶数据的像素位置计算出对应的mura补偿数据,输出mura补偿后的灰阶数据。本发明还提供了相应的补偿装置及液晶显示器。本发明针对可以用曲面公式近似表达的规则mura,通过其分布曲线和极少量的固定像素位置的mura补偿数据来计算完成所有像素位置的mura补偿数据,减少闪存容量的使用。
技术领域
本发明涉及液晶显示器领域,尤其涉及一种针对规则mura的修复处理方法、补偿装置及液晶显示器。
背景技术
液晶显示器(LCD)等平面显示装置因具有高画质、省电、机身薄及应用范围广等优点,而被广泛的应用于手机、电视、个人数字助理、数字相机、笔记本电脑、台式计算机等各种消费性电子产品,成为显示装置中的主流。
如图1A所示,其为现有亮暗不均补偿装置的结构框图。为了解决LCD制程/器件上的瑕疵而产生的亮暗不均(mura),现有亮暗不均补偿方法是将灰阶补偿数据存储在与面板(panel)搭配的闪存(flash)11中,然后时序控制芯片(TCON IC)12读取闪存中存储的mura补偿数据,灰阶数据输入时序控制芯片12,De-mura(亮暗不均补偿)模块13根据mura补偿数据和灰阶数据进行运算来调整灰阶值,然后时序控制芯片12输出mura补偿后的灰阶数据,改变像素的亮度来达到亮暗不均修补效果。如图1B所示,其为面板原始亮暗不均与亮暗不均补偿数据的示意图。闪存中存储的为亮暗不均位置的反向灰阶补偿值,即De-mura补偿数据:比面板中心位置偏亮的区域,补偿值为负数,降低灰阶值,变暗;比面板中心位置偏暗的区域,补偿值为正数,提高灰阶值,变亮。
参见图2,其为现有技术中亮暗不均补偿数据计算方法示意图。现有技术中,闪存中存储固定间隔区域各顶点像素位置的亮暗不均补偿数据参考值(如图2所示为8*8的固定间隔设置)A,B,C,D,其余像素的亮暗不均补偿数据E,F,G由8*8间隔区域四个顶点像素的亮暗不均补偿数据A,B,C,D进行线性插值计算得到。
如图3所示,其为现有技术中对8*8和16*16的固定间隔设置采用线性插值计算亮暗不均补偿数据的效果示意图。可见,采用线性插值计算亮暗不均补偿数据时,8*8的固定间隔设置的线性补偿效果要好于16*16的固定间隔设置,与理想的mura补偿数据更接近。现有技术的缺陷在于,由于面板的分辨率越来越高,即像素越来越多,闪存中存储的亮暗不均补偿参考数据也会越来越多,需要增加闪存的存储容量;若扩大固定间隔区域的设置(例如16*16,32*32等),参照图2所示的补偿数据计算方法,设16*16或32*32固定间隔区域各顶点像素位置的亮暗不均补偿数据参考值A,B,C,D,其余像素的亮暗不均补偿数据E,F,G可由16*16或32*32间隔区域四个顶点像素的亮暗不均补偿数据A,B,C,D进行线性插值计算得到。
对于16*16间隔区域:
E=[(16-Y)*A+Y*C]/16;
F=[(16-Y)*B+Y*D]/16;
G=[(16-X)*E+X*F]/16。
对于32*32间隔区域:
E=[(32-Y)*A+Y*C]/32;
F=[(32-Y)*B+Y*D]/32;
G=[(32-X)*E+X*F]/32。
则固定间隔区域内各像素的线性插值计算数值又会不准确(亮暗不均在设定的固定间隔区域内非线性变化)。
发明内容
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710326322.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:工件及电子设备
- 下一篇:可提高MOCVD反应腔内载盘温度均匀性的加热装置