[发明专利]针对规则mura的修复处理方法、补偿装置及液晶显示器有效
申请号: | 201710326322.9 | 申请日: | 2017-05-10 |
公开(公告)号: | CN106952629B | 公开(公告)日: | 2020-01-31 |
发明(设计)人: | 张华 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G09G3/36 | 分类号: | G09G3/36 |
代理公司: | 44265 深圳市德力知识产权代理事务所 | 代理人: | 林才桂;刘巍 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 针对 规则 mura 修复 处理 方法 补偿 装置 液晶显示器 | ||
1.一种针对规则mura的修复处理方法,其特征在于,包括:
步骤10、通过相机拍摄面板整个显示区域的亮暗度差异,计算出每个像素点所需的mura补偿数据;
步骤20、根据每个像素点所需的mura补偿数据在三维上的分布图形,计算出最佳匹配的mura曲面表达公式并将其存储在闪存中;
步骤30、在该闪存中存储一些固定位置像素的mura补偿数据;
步骤40、进行mura修复处理时,时序控制芯片读取该闪存中的mura补偿数据及mura曲面表达公式,再根据输入的灰阶数据的像素位置计算出对应的mura补偿数据,然后输出mura补偿后的灰阶数据;时序控制芯片从闪存中读取固定位置像素的mura补偿数据以及mura曲面表达公式后,将输入的灰阶数据的像素位置和固定位置像素的mura补偿数据作为参数代入mura曲面表达公式得到非固定位置像素的mura补偿数据;
所述规则mura的mura补偿数据在面板区域内和亮暗度上所呈现的三维分布能够由简单的曲面公式近似表达;
所述规则mura的mura补偿数据在面板区域内和亮暗度上所呈现的三维分布包括近似为弧面的三维分布。
2.如权利要求1所述的针对规则mura的修复处理方法,其特征在于,所述在三维上的分布图形为在以像素点平面坐标为x轴、y轴,以mura补偿数据大小为z轴的三维坐标系内呈现的三维分布。
3.一种针对规则mura的修复处理方法,其特征在于,包括:
步骤10、通过相机拍摄面板整个显示区域的亮暗度差异,计算出每个像素点所需的mura补偿数据;
步骤20、根据每个像素点所需的mura补偿数据在三维上的分布图形,计算出最佳匹配的mura曲面表达公式并将其存储在闪存中;
步骤30、在该闪存中存储一些固定位置像素的mura补偿数据;
步骤40、进行mura修复处理时,时序控制芯片读取该闪存中的mura补偿数据及mura曲面表达公式,再根据输入的灰阶数据的像素位置计算出对应的mura补偿数据,然后输出mura补偿后的灰阶数据;时序控制芯片从闪存中读取固定位置像素的mura补偿数据以及mura曲面表达公式后,将输入的灰阶数据的像素位置和固定位置像素的mura补偿数据作为参数代入mura曲面表达公式得到非固定位置像素的mura补偿数据;
所述规则mura的mura补偿数据在面板区域内和亮暗度上所呈现的三维分布能够由简单的曲面公式近似表达;
所述规则mura的mura补偿数据在面板区域内和亮暗度上所呈现的三维分布包括近似为波浪状的三维分布。
4.如权利要求3所述的针对规则mura的修复处理方法,其特征在于,所述在三维上的分布图形为在以像素点平面坐标为x轴、y轴,以mura补偿数据大小为z轴的三维坐标系内呈现的三维分布。
5.一种针对规则mura的补偿装置,其特征在于,包括闪存和时序控制芯片;该闪存存储mura曲面表达公式和一些固定位置像素的mura补偿数据;进行mura修复处理时,该时序控制芯片读取该闪存中的mura补偿数据及mura曲面表达公式,再根据输入的灰阶数据的像素位置计算出对应的mura补偿数据,然后输出mura补偿后的灰阶数据;时序控制芯片从闪存中读取固定位置像素的mura补偿数据以及mura曲面表达公式后,将输入的灰阶数据的像素位置和固定位置像素的mura补偿数据作为参数代入mura曲面表达公式得到非固定位置像素的mura补偿数据;
所述规则mura的mura补偿数据在面板区域内和亮暗度上所呈现的三维分布能够由简单的曲面公式近似表达;
所述规则mura的mura补偿数据在面板区域内和亮暗度上所呈现的三维分布包括近似为弧面的三维分布。
6.一种液晶显示装置,其特征在于,包括如权利要求5所述的针对规则mura的补偿装置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710326322.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:工件及电子设备
- 下一篇:可提高MOCVD反应腔内载盘温度均匀性的加热装置