[发明专利]光学成像系统

说明书

技术领域

本发明涉及一种光学成像系统，且特别是有关于一种应用于电子产品上的小型光学成像系统。

背景技术

近年来，随着具有摄影功能的可携式电子产品的兴起，光学系统的需求日渐增加。一般光学系统的感光元件不外乎是感光耦合元件(ChargeCoupledDevice；CCD)或互补性氧化金属半导体元件(ComplementaryMetal-OxideSemiconductorSensor；CMOSSensor)两种，且随着半导体制造技术的进步，使得感光元件的像素尺寸缩小，光学系统逐渐往高像素方向发展，因此对成像质量的要求也日益增加。

传统搭载于便携设备上的光学系统，多采用三片或四片式透镜结构，然而，由于便携设备不断朝像素提升方向发展，并且终端消费者对大光圈的需求也逐渐增加，例如微光与夜拍功能，现有的光学成像系统已无法满足更高阶的摄影要求。

因此，如何有效增加光学成像镜头的进光量，并进一步提高成像的质量，便成为一个相当重要的议题。

发明内容

本发明针对一种光学成像系统及光学影像撷取镜头，能够利用五个透镜的屈光力、凸面与凹面的组合(本发明所述凸面或凹面原则上指各透镜的物侧面或像侧面距离光轴不同高度的几何形状变化的描述)，进而有效提高光学成像系统的进光量，同时提高成像质量，以应用于小型的电子产品上。

本发明实施例相关的透镜参数的用语与其代号详列如下，作为后续描述的参考：

与长度或高度有关的透镜参数：

光学成像系统的成像高度以HOI表示；光学成像系统的高度以HOS表示；光学成像系统中的第一透镜物侧面至第五透镜像侧面间的距离以InTL表示；光学成像系统中的固定光栏(光圈)至成像面间的距离以InS表示；光学成像系统中的第一透镜与第二透镜间的距离以IN12表示(例示)；光学成像系统中的第一透镜于光轴上的厚度以TP1表示(例示)。

与材料有关的透镜参数：

光学成像系统的第一透镜的色散系数以NA1表示(例示)；第一透镜的折射律以Nd1表示(例示)。

与视角有关的透镜参数：

视角以AF表示；视角的一半以HAF表示；主光线角度以MRA表示。

与出入瞳有关的透镜参数：

光学成像系统的入射瞳直径以HEP表示；单一透镜的任一表面的最大有效半径指系统最大视角入射光通过入射瞳最边缘的光线于该透镜表面交会点(EffectiveHalfDiameter；EHD)，该交会点与光轴之间的垂直高度。例如第一透镜物侧面的最大有效半径以EHD11表示，第一透镜像侧面的最大有效半径以EHD12表示。第二透镜物侧面的最大有效半径以EHD21表示，第二透镜像侧面的最大有效半径以EHD22表示。光学成像系统中其余透镜的任一表面的最大有效半径表示方式以此类推。

与透镜面形深度有关的参数：

第五透镜物侧面于光轴上的交点至第五透镜物侧面的最大有效半径的终点为止，前述两点间水平于光轴的距离以InRS51表示(最大有效半径深度)；第五透镜像侧面于光轴上的交点至第五透镜像侧面的最大有效半径的终点为止，前述两点间水平于光轴的距离以InRS52表示(最大有效半径深度)。其他透镜物侧面或像侧面的最大有效半径的深度(沉陷量)表示方式比照前述。

与透镜面型有关的参数：

临界点C指特定透镜表面上，除与光轴的交点外，一与光轴相垂直的切面相切的点。承上，例如第四透镜物侧面的临界点C41与光轴的垂直距离为HVT41(例示)，第四透镜像侧面的临界点C42与光轴的垂直距离为HVT42(例示)，第五透镜物侧面的临界点C51与光轴的垂直距离为HVT51(例示)，第五透镜像侧面的临界点C52与光轴的垂直距离为HVT52(例示)。其他透镜的物侧面或像侧面上的临界点及其与光轴的垂直距离的表示方式比照前述。

第五透镜物侧面上最接近光轴的反曲点为IF511，该点沉陷量SGI511(例示)，SGI511亦即第五透镜物侧面于光轴上的交点至第五透镜物侧面最近光轴的反曲点之间与光轴平行的水平位移距离，IF511该点与光轴间的垂直距离为HIF511(例示)。第五透镜像侧面上最接近光轴的反曲点为IF521，该点沉陷量SGI521(例示)，SGI511亦即第五透镜像侧面于光轴上的交点至第五透镜像侧面最近光轴的反曲点之间与光轴平行的水平位移距离，IF521该点与光轴间的垂直距离为HIF521(例示)。