[发明专利]光学成像系统在审
| 申请号: | 201710324416.2 | 申请日: | 2017-04-25 |
| 公开(公告)号: | CN107462971A | 公开(公告)日: | 2017-12-12 |
| 发明(设计)人: | 赖建勋;唐乃元;张永明 | 申请(专利权)人: | 先进光电科技股份有限公司 |
| 主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00;G02B13/18 |
| 代理公司: | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司11139 | 代理人: | 孙皓晨 |
| 地址: | 中国台*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 成像 系统 | ||
1.一种光学成像系统,其特征在于,由物侧至像侧依序包含:
一第一透镜,具有屈折力;
一第二透镜,具有屈折力;
一第三透镜,具有屈折力;
一第四透镜,具有屈折力;
一第五透镜,具有屈折力;以及
一成像面;
其中,该第一透镜至该第五透镜中至少一透镜的至少一表面具有至少一反曲点,该第一透镜至该第五透镜中至少一透镜具有正屈折力,该第一透镜至该第五透镜的焦距分别为f1、f2、f3、f4和f5,该光学成像系统的焦距为f,该光学成像系统的入射瞳直径为HEP,该第一透镜物侧面至该成像面于光轴上的距离为HOS,该第一透镜物侧面至该第五透镜像侧面于光轴上的距离为InTL,该光学成像系统的最大可视角度的一半为HAF,该第一透镜至该第五透镜于1/2HEP高度且平行于光轴的厚度分别为ETP1、ETP2、ETP3、ETP4以及ETP5,前述ETP1至ETP5的总和为SETP,该第一透镜至该第五透镜于光轴的厚度分别为TP1、TP2、TP3、TP4以及TP5,前述TP1至TP5的总和为STP,其满足下列条件:1.0≤f/HEP≤10.0;0deg<HAF≤150deg以及0.5≤SETP/STP<1。
2.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至该成像面间平行于光轴的水平距离为ETL,该第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至该第五透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点间平行于光轴的水平距离为EIN,其满足下列条件:0.2≤EIN/ETL<1。
3.如权利要求2所述的光学成像系统,其特征在于,该第一透镜至该第五透镜于1/2HEP高度且平行于光轴的厚度分别为ETP1、ETP2、ETP3、ETP4以及ETP5,前述ETP1至ETP5的总和为SETP,其满足下列公式:0.3≤SETP/EIN<1。
4.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该光学成像系统包括一滤光元件,该滤光元件位于该第五透镜以及该成像面之间,该第五透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点至该滤光元件间平行于光轴的距离为EIR,该第五透镜像侧面上与光轴的交点至该滤光元件间平行于光轴的距离为PIR,其满足下列公式:0.1≤EIR/PIR≤1.1。
5.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该第一透镜具有负屈折力。
6.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,可见光在该成像面上的光轴、0.3HOI以及0.7HOI三处于空间频率55cycles/mm的调制转换对比转移率分别以MTFE0、MTFE3以及MTFE7表示,其满足下列条件:MTFE0≥0.2;MTFE3≥0.01;以及MTFE7≥0.01。
7.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该成像面为一平面或一曲面。
8.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该第三透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点至该成像面间平行于光轴的水平距离为EBL,该第五透镜像侧面上与光轴的交点至该成像面平行于光轴的水平距离为BL,其满足下列公式:0.1≤EBL/BL≤1.5。
9.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,还包括一光圈,并且于该光圈至该成像面于光轴上的距离为InS,其满足下列公式:0.2≤InS/HOS≤1.1。
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