[发明专利]一种紫外光清洗基板的方法及系统

说明书

本申请提供了一种紫外光清洗基板的方法及系统，用以在有效去除黏附于基板表面的有机物时不损伤基板，本申请提供的一种紫外光清洗基板的方法包括：将基板划分为至少两个区域，检测所述基板上各个区域的有机物残留量并确定各个区域的位置；根据所述各个区域的有机物残留量，确定清洗各个区域的紫外光辐射量；根据确定的清洗各个区域的紫外光辐射量和各个区域的位置，清洗所述基板。

技术领域

本申请涉及显示技术领域，特别是涉及一种紫外光清洗基板的方法及系统。

背景技术

在显示器的制备过程中，基板的清洗是其中的一项重要工艺，直接影响产品的品质。为了去除基板表面黏附的有机物，保证基板的洁净，目前得到广泛应用的一种清洗基板的方法是利用有机物的光敏氧化作用通过紫外光对基板进行清洗。紫外光表面清洗技术是非接触式高清洁干法表面处理技术，其特点是：清洗后的洁净度能够到达原子级，它借助光和气的作用把玻璃表面黏附的各类有机物彻底清除干净，由于不直接接触表面就不会造成基板表面的损伤，同时不会对环境造成污染。

在清洗过程中，通常采用统一的紫外光辐射量(辐射量(累积光量)＝照度×照射时间)对同一张基板进行清洗，但由于基板的特异性，不同类型的基板表面的有机物残留量的分布，以及同一张基板表面不同区域的有机物残留量的分布都存在很大差异，若采用统一的紫外光辐射量对基板进行清洗，会导致部分区域的紫外光辐射量过量，部分区域的紫外光辐射量不足，而过量的紫外光辐射量会对基板造成损伤，不足的紫外光辐射量又不能有效去除黏附于基板表面的有机物。

基于此，如何在有效去除黏附于基板表面的有机物时不损伤基板，是本领域技术人员亟待解决的技术问题。

发明内容

本申请实施例提供了一种紫外光清洗基板的方法及系统，用以在有效去除黏附于基板表面的有机物时不损伤基板。

本申请实施例提供的一种紫外光清洗基板的方法包括：

将基板划分为至少两个区域，检测所述基板上各个区域的有机物残留量并确定各个区域的位置；

根据所述各个区域的有机物残留量，确定清洗各个区域的紫外光辐射量；

根据确定的清洗各个区域的紫外光辐射量和各个区域的位置，清洗所述基板。

本申请实施例提供的紫外光清洗基板的方法，通过将基板划分为至少两个区域，检测所述基板上各个区域的有机物残留量并确定各个区域的位置；根据所述各个区域的有机物残留量，确定清洗各个区域的紫外光辐射量；根据确定的清洗各个区域的紫外光辐射量和各个区域的位置，清洗所述基板，因此可以在有效去除黏附于基板表面的有机物时不损伤基板。

较佳地，所述根据确定的清洗各个区域的紫外光辐射量和各个区域的位置，清洗所述基板，具体包括：

针对任意一个待清洗的区域，根据确定的清洗该区域的紫外光辐射量和该区域的位置，调节该区域对应的紫外光源的照度和/或照射时间，得到所述确定的清洗该区域的紫外光辐射量，清洗该区域。

较佳地，所述根据所述各个区域的有机物残留量，确定清洗各个区域的紫外光辐射量，具体包括：

根据所述各个区域的有机物残留量，以及预设的有机物残留量与紫外光辐射量的第一对应关系，确定清洗各个区域的紫外光辐射量；其中，所述第一对应关系表征紫外光辐射量与有机物残留量成正比。

较佳地，所述检测所述基板上任意一个区域的有机物残留量，具体包括：

在所述基板上任意一个区域滴注至少一滴水滴；

检测该区域的水滴和所述基板表面的接触角，根据预设的接触角与有机物残留量的第二对应关系，确认所述基板上该区域的有机物残留量。

较佳地，所述基板上任意一个区域滴注有多滴水滴，所述检测该区域的水滴和所述基板表面的接触角，具体包括：