[发明专利]一种紫外光清洗基板的方法及系统

权利要求书

1.一种紫外光清洗基板的方法，其特征在于，该方法包括：

将基板划分为至少两个区域，检测所述基板上各个区域的有机物残留量并确定各个区域的位置；

根据所述各个区域的有机物残留量，确定清洗各个区域的紫外光辐射量；

根据确定的清洗各个区域的紫外光辐射量和各个区域的位置，清洗所述基板；

所述根据确定的清洗各个区域的紫外光辐射量和各个区域的位置，清洗所述基板，具体包括：

针对任意一个待清洗的区域，根据确定的清洗该区域的紫外光辐射量和该区域的位置，调节该区域对应的紫外光源的照度和/或照射时间，得到所述确定的清洗该区域的紫外光辐射量，清洗该区域；

所述根据所述各个区域的有机物残留量，确定清洗各个区域的紫外光辐射量，具体包括：

根据所述各个区域的有机物残留量，以及预设的有机物残留量与紫外光辐射量的第一对应关系，确定清洗各个区域的紫外光辐射量；其中，所述第一对应关系表征紫外光辐射量与有机物残留量成正比；

所述检测所述基板上任意一个区域的有机物残留量，具体包括：

通过碳氢测定方法检测基板上任意一个区域的有机物残留量；

所述通过碳氢测定方法检测基板上任意一个区域的有机物残留量，具体包括：

采用碳氢测量计测量基板上任意一个区域的碳含量，根据预设的碳含量与有机物残留量的对应关系，确认所述基板上该区域的有机物残留量。

2.一种紫外光清洗基板的系统，其特征在于，该系统包括：

检测单元，用于将基板划分为至少两个区域，检测所述基板上各个区域的有机物残留量并确定各个区域的位置；

紫外光辐射量确定单元，用于根据所述各个区域的有机物残留量，确定清洗各个区域的紫外光辐射量；

紫外光清洗单元，用于根据确定的清洗各个区域的紫外光辐射量和各个区域的位置，清洗所述基板；

所述紫外光清洗单元具体用于：

针对任意一个待清洗的区域，根据确定的清洗该区域的紫外光辐射量和该区域的位置，调节该区域对应的紫外光源的照度和/或照射时间，得到所述确定的清洗该区域的紫外光辐射量，清洗该区域；

所述根据所述各个区域的有机物残留量，确定清洗各个区域的紫外光辐射量，具体包括：

根据所述各个区域的有机物残留量，以及预设的有机物残留量与紫外光辐射量的第一对应关系，确定清洗各个区域的紫外光辐射量；其中，所述第一对应关系表征紫外光辐射量与有机物残留量成正比；

所述检测单元具体用于：

测量基板上任意一个区域的碳含量，根据预设的碳含量与有机物残留量的对应关系，确认所述基板上该区域的有机物残留量。