[发明专利]显示装置及其制造方法

权利要求书

1.一种有机EL显示装置，在第一基板上形成有TFT，在所述TFT之上形成有有机EL层，所述有机EL显示装置的特征在于，

在所述有机EL层之上形成有保护层，

在所述第一基板的外侧形成有第一基底层。

2.根据权利要求1所述的有机EL显示装置，其特征在于，

所述第一基底层由包含AlOx在内的层形成。

3.根据权利要求1所述的有机EL显示装置，其特征在于，

所述第一基底层为膜质不同的第一AlOx和第二AlOx的层叠构造。

4.根据权利要求1所述的有机EL显示装置，其特征在于，

在所述保护层之上形成有第二基板，

在所述第二基板的外侧形成有第二基底层。

5.根据权利要求4所述的有机EL显示装置，其特征在于，

所述第二基底层由包含AlOx在内的层形成。

6.一种有机EL显示装置的制造方法，所述有机EL显示装置在第一基板上形成有TFT，在所述TFT之上形成有有机EL层，所述有机EL显示装置的制造方法的特征在于，

在第一玻璃基板之上形成剥离层，

在所述剥离层之上形成基底层，

在所述基底层之上通过聚酰亚胺形成第一基板，

在所述第一基板上形成所述TFT，在所述TFT之上形成有机EL层，

在所述有机EL层之上形成保护层，

之后，将所述玻璃基板与所述剥离层一同从所述第一基板剥离。

7.根据权利要求6所述的有机EL显示装置的制造方法，其特征在于，

所述剥离层由Ti、Ni、Cu、Fe、Ag、Au、Cr、Mo、W等金属、或包含这些金属的合金形成。

8.根据权利要求6所述的有机EL显示装置的制造方法，其特征在于，

由AlOx形成所述基底层。

9.根据权利要求6所述的有机EL显示装置的制造方法，其特征在于，

由第一水分压下的第一AlOx和第二水分压下的第二AlOx的层叠构造形成所述基底层。

10.根据权利要求6所述的有机EL显示装置的制造方法，其特征在于，

所述剥离通过激光烧蚀进行。

11.一种液晶显示装置，

在第一基板上形成有TFT和像素电极，

与所述第一基板对置地配置有对置基板，

在所述第一基板和所述第二基板之间夹持有液晶，

所述液晶显示装置的特征在于，

在所述第一基板的外侧形成有第一基底层。

12.根据权利要求11所述的液晶显示装置，其特征在于，

所述第一基底层由包含AlOx在内的层形成。

13.根据权利要求11所述的液晶显示装置，其特征在于，

所述第一基底层为膜质不同的第一AlOx和第二AlOx的层叠构造。

14.根据权利要求11所述的液晶显示装置，其特征在于，

在所述第二基板的外侧形成有第二基底层。

15.根据权利要求14所述的液晶显示装置，其特征在于，

所述第二基底层由包含AlOx在内的层形成。

16.一种液晶显示装置的制造方法，在所述液晶显示装置中，

在第一基板上形成有TFT和像素电极，

与所述第一基板对置地配置有对置基板，

在所述第一基板和所述第二基板之间夹持有液晶，所述液晶显示装置的制造方法的特征在于，

在第一玻璃基板之上形成第一剥离层，

在所述第一剥离层之上形成第一基底层，

在所述第一基底层之上通过聚酰亚胺形成第一基板，

在所述第一基板之上形成所述TFT和所述像素电极，

在第二玻璃基板之上形成第二剥离层，

在所述第二剥离层之上形成第二基底层，

在所述第二基底层之上通过聚酰亚胺形成第二基板，

在所述第一基板和所述第二基板之间封固液晶，

之后，将所述第二玻璃基板与所述第二剥离层一同从所述第二基板剥离，

将所述第一玻璃基板与所述第一剥离层一同从所述第一基板剥离。