[发明专利]金属辅助电极及使用其的显示器件的制造方法

权利要求书

1.一种显示器件的金属辅助电极的制造方法，依次包括：

在显示器件的像素界定层的顶部形成至少一个凹槽；以及

通过转印的方法在所述像素界定层的顶部形成金属辅助电极；

其中所述通过转印的方法在所述像素界定层的顶部形成金属辅助电极包括：

在第一平面载台上涂布胶黏剂，将所述像素界定层的顶部放置在第一平面载台上，使所述像素界定层的顶部粘有胶黏剂；

在第二平面载台上制作脱膜层，在脱膜层上制作薄金属层，将粘有胶黏剂的所述像素界定层的顶部与薄金属层对合，并施加压力，使薄金属层粘结在所述像素界定层的顶部；以及

使薄金属层与脱膜层分离。

2.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述凹槽的深度为所述像素界定层高度的20％-50％。

3.根据权利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述凹槽为两个。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的制造方法，其特征在于，所述显示器件为有机电致发光显示器件。

5.一种显示器件的制造方法，依次包括：

在基板上形成TFT和像素界定层；

在所述像素界定层的顶部形成至少一个凹槽；

在所述TFT上形成发光层；

通过转印的方法在所述像素界定层的顶部形成金属辅助电极；以及

在所述显示器件表面上形成顶电极；

其中所述通过转印的方法在所述像素界定层的顶部形成金属辅助电极包括：

在第一平面载台上涂布胶黏剂，将所述像素界定层的顶部放置在第一平面载台上，使所述像素界定层的顶部粘有胶黏剂；

在第二平面载台上制作脱膜层，在脱膜层上制作薄金属层，将粘有胶黏剂的所述像素界定层的顶部与薄金属层对合，并施加压力，使薄金属层粘结在所述像素界定层的顶部；以及

使薄金属层与脱膜层分离。

6.根据权利要求5所述的制造方法，其特征在于，所述显示器件为有机电致发光显示器件。

7.一种显示器件的制造方法，依次包括：

在基板上形成TFT和像素界定层；

在所述像素界定层的顶部形成至少一个凹槽；

通过转印的方法在所述像素界定层的顶部形成金属辅助电极；

在所述TFT上形成发光层；以及

在所述显示器件表面上形成顶电极；

其中所述通过转印的方法在所述像素界定层的顶部形成金属辅助电极包括：

在第一平面载台上涂布胶黏剂，将所述像素界定层的顶部放置在第一平面载台上，使所述像素界定层的顶部粘有胶黏剂；

在第二平面载台上制作脱膜层，在脱膜层上制作薄金属层，将粘有胶黏剂的所述像素界定层的顶部与薄金属层对合，并施加压力，使薄金属层粘结在所述像素界定层的顶部；以及

使薄金属层与脱膜层分离。

8.根据权利要求7所述的制造方法，其特征在于，在所述形成金属辅助电极之后、所述形成发光层之前，使用激光照射所述金属辅助电极。

9.根据权利要求7或8所述的制造方法，其特征在于，所述显示器件为有机电致发光显示器件。