[发明专利]封装结构及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201710299610.X 申请日: 2017-05-02
公开(公告)号: CN108400124B 公开(公告)日: 2019-11-22
发明(设计)人: 林柏均 申请(专利权)人: 南亚科技股份有限公司
主分类号: H01L23/488 分类号: H01L23/488;H01L21/60
代理公司: 11279 北京中誉威圣知识产权代理有限公司 代理人: 王正茂;丛芳<国际申请>=<国际公布>=
地址: 中国台湾新*** 国省代码: 中国台湾;TW
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摘要:
搜索关键词: 弹性凸块 封装结构 内连接层 钝化层 开口 导电层配置 导电层 精准度 节距 配置 嵌入 制造
【权利要求书】:

1.一种封装结构,其特征在于,包含:

内连接层;

钝化层,配置于所述内连接层上,其中所述钝化层具有至少一个开口;

至少一个弹性凸块,配置于所述内连接层上,其中所述弹性凸块包括嵌入部分以及凸出部分,所述凸出部分的宽度大于所述嵌入部分的宽度,所述嵌入部分嵌入至所述开口中;以及

导电层,配置于所述弹性凸块以及所述钝化层上。

2.如权利要求1所述的封装结构,其特征在于,所述弹性凸块的材料包含聚酰亚胺、聚二甲基硅氧烷,或聚胺酯。

3.如权利要求1所述的封装结构,其特征在于,所述钝化层的材料包含二氧化硅。

4.如权利要求1所述的封装结构,其特征在于,还包含:

至少一个耦接块,配置于所述开口中,其中所述耦接块嵌入至所述弹性凸块中。

5.如权利要求1所述的封装结构,其特征在于,还包含:

附着层,配置于所述开口中。

6.一种形成封装结构的方法,其特征在于,包含:

形成内连接层;

在所述内连接层上形成钝化层;

开槽所述钝化层以形成至少一个开口;

在所述开口中形成至少一个弹性凸块,其中所述弹性凸块包括嵌入部分以及凸出部分,所述凸出部分的宽度大于所述嵌入部分的宽度,所述嵌入部分嵌入至所述开口中;以及

在所述弹性凸块以及所述钝化层上形成导电层。

7.如权利要求6所述的形成封装结构的方法,其特征在于,还包含:

在所述开口中形成至少一个耦接块,使得所述耦接块嵌入至所述弹性凸块中。

8.如权利要求6所述的形成封装结构的方法,其特征在于,开槽所述钝化层还包含:

在钝化层及所述内连接层中开槽所述内连接层以形成所述开口。

9.一种形成封装结构的方法,其特征在于,包含:

形成内连接层;

开槽所述内连接层以形成至少一个开口;

在所述开口中形成至少一个弹性凸块,其中所述弹性凸块包括嵌入部分以及凸出部分,所述凸出部分的宽度大于所述嵌入部分的宽度,所述嵌入部分嵌入至所述开口中;以及

在所述弹性凸块以及所述内连接层上形成导电层。

10.如权利要求9所述的形成封装结构的方法,其特征在于,开槽所述内连接层后,至少一个金属线自所述内连接层中曝露。

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