[发明专利]像素结构、显示面板及显示装置

说明书

本发明一种像素结构、显示面板及显示装置，所述像素结构包括基板，平坦层，形成于所述基板上，所述平坦层具有与像素电极对应的凹槽，所述像素电极位于所述凹槽内；像素界定层，形成于所述平坦层上，所述像素界定层具有像素坑，相同颜色的所述像素电极位于同一个像素坑中。通过采用亲水性材料制作驱动电路平坦层，且将像素电极嵌入亲水性平坦层内，嵌入式的像素电极可以有效防止像素电极边缘凸起引起短路以及尖端放电现象，随后用疏水性材料制作像素界定层，形成墨水沉积区，从而省去第一层亲水性像素界定层的制备，简化了制作像素结构的制作工艺，进而节约制作成本。

技术领域

本发明涉及发光器件技术领域，特别是涉及一种像素结构、显示面板及显示装置。

背景技术

采用溶液加工制作OLED以及QLED显示器，由于其低成本、高产能、易于实现大尺寸等优点，是未来显示技术发展的重要方向。其中，印刷技术被认为是实现OLED以及QLED低成本和大面积全彩显示的最有效途径。

在印刷工艺中，由于受设备精度以及液滴尺寸的影响，对于传统的RGBStripe排列的像素结构较难实现高分辨率显示面板的制备，而高分辨率是未来高质量显示面板发展的主流方向，因此目前的印刷工艺中往往通过其他的像素结构设计来实现高分辨，如图1所示，通过两层的像素PDL层(像素界定层)结构设计，第一层为亲水性PDL层，覆盖像素电极边缘区，防止短路以及尖端放电，第二层为疏水性PDL层，将相邻的相同颜色的子像素集围成的开口内，形成一个较大的墨水沉积区，进而提高印刷工艺制作的显示面板的分辨率。但由于需要形成两层PDL层，制作工序较为复杂，不利于制作成本的降低。

因此，现有技术有待改进和发展。

发明内容

基于此，本发明的目的是提供一种新的像素结构。

具体的技术方案如下：

一种像素结构，包括

基板；

平坦层，形成于所述基板上，所述平坦层具有与像素电极对应的凹槽，所述像素电极位于所述凹槽内；

像素界定层，形成于所述平坦层上，所述像素界定层具有像素坑，相同颜色的所述像素电极位于同一个像素坑中；所述像素坑的内侧面与所述平坦层的交界线与所述像素电极之间设有缓冲区。

在其中一些实施例中，所述交界线与所述像素电极之间的距离为2-10μm。

在其中一些实施例中，所述平坦层的厚度大于等于所述像素电极的厚度。

在其中一些实施例中，所述像素界定层的厚度为0.8-2μm。

在其中一些实施例中，所述平坦层由亲水性材料制备而成，所述亲水性材料选自PVA、亲水性PI或氮化硅。

在其中一些实施例中，所述像素界定层由疏水性材料制备而成，所述疏水性材料选自有机硅材料或疏水性PI。

本发明的另一目的是提供一种显示面板。

一种显示面板，包括上述像素结构。

本发明的另一目的是提供上述显示面板的制备方法。

上述显示面板的制备方法，包括如下步骤：

S1、获取基板，于所述基板上沉积一层平坦层，所述平坦层的材质为亲水性材料，于所述平坦层上通过蚀刻形成凹槽；

S2、于所述凹槽内沉积像素电极；

S3、于所述平坦层上沉积像素界定层，并通过图形化工艺形成像素坑，相同颜色的所述像素电极位于同一个像素坑中；所述像素坑的内侧面与所述平坦层的交界线与所述像素电极之间设有缓冲区；

S4、于所述像素坑中采用印刷工艺沉积发光层；