[发明专利]真空排水装置

说明书

一种真空排水装置，由过滤减压阀、正压隔膜阀、真空发生器、负压隔膜阀、过滤器、真空电磁阀、排水电磁阀、排液隔膜阀、单向活门以及带压力传感器的压力表组成。本发明真空排水装置设计新颖、结构合理。本发明真空发生器取替真空泵泵，提高了排水装置的使用寿命；排液时，排水电磁阀为过滤器提供正压，提高了过滤器的排液效率；单向活门避免了排液时破坏陶瓷吸盘的真空压力引起晶圆吸附不牢被抛出破碎；真空隔膜阀可防止排液时气体从真空发生器反流出，降低排液效率。本发明真空排水装置解决了湿法清洗设备管路因进入化学清洗液而降低真空度，损坏晶圆的问题，保证了陶瓷吸盘能稳定吸附晶圆，提高了晶圆清洗质量和生产安全。

技术领域

本发明涉及一种晶圆的清洗设备，特别是涉及一种晶圆湿法清洗设备的真空排水装置。

背景技术

半导体制造生产过程中，需要使用湿法清洗设备对陶瓷吸盘兼容吸附的不同规格的晶圆进行清洗。利用陶瓷吸盘对不同规格晶圆清洗时时，一方面由于陶瓷吸盘吸附区域边缘存在渗透问题，致使少量的化学清洗液通过该区域边缘进入真空管路，导致管路真空度下降，使得吸盘对晶圆的吸附能力下降。另一方面清洗晶圆时，由于吸盘的未吸附晶圆的区域暴露在清洗液中，在吸盘内外压差作用下，清洗液通过吸盘微孔渗入到吸盘中，致使陶瓷吸盘再次吸附晶圆时，清洗液也会被吸入真空管路中，使真空管路的真空度进一步下降，加剧降低了吸盘吸附能力。真空管路的真空度下降，严重影响晶圆的产品质量和生产安全。

发明内容

本发明的目的是要克服已有技术的不足，给出一种能排除进入湿法清洗设备真空管路中的化学清洗液，避免湿法清洗设备管路因存在化学清洗液使真空度波动进而降低陶瓷吸盘吸附晶圆能力，保证湿法清洗设备中陶瓷吸盘能稳定吸附晶圆的真空排水装置。

本发明的目的是能够实现的。本发明的真空排水装置包括气源以及传统湿法清洗设备中的陶瓷吸盘，本发明真空排水装置的特征在于：所述气源出口分为两路，一路通过PFA软管依次连接正压隔膜阀、真空发生器、负压隔膜阀、过滤器、单向活门以及陶瓷吸盘，另一路通过PFA软管与过滤减压阀连接，所述过滤器还连接排液隔膜阀，所述单向活门与陶瓷吸盘之间的真空管路上设有带压力传感器的压力表；

所述过滤减压阀的出口分为两路，一路通过PFA软管与真空电磁阀的进气接头连接，另一路与排水电磁阀的进气接头连接，所述真空电磁阀的出气口分为两路，一路与正压隔膜阀受控端连接，另一路与负压隔膜阀受控端连接，所述排水电磁阀的出气口分为两路，一路与排液隔膜阀的受控端连接，另一路与负压隔膜阀和过滤器之间的真空管路连接。

本发明真空排水装置，其中所述过滤器上设有高液位传感器、低液位传感器和排放口，所述排放口连接排液隔膜阀。

本发明真空排水装置，其中所述过滤器上的高液位传感器、低液位传感器以及带压力传感器的压力表均与程控系统有线连接，所述真空电磁阀和排水电磁阀均与程控系统有线连接，且工作状态互为相反。

本发明真空排水装置，其中所述真空电磁阀在通电状态下排水电磁阀电磁处在断电状态，真空电磁阀在断电状态下排水电磁阀电磁处在通电状态，所述真空电磁阀在通电状态下，正压隔膜阀和负压隔膜阀处在打开状态，真空电磁阀处在断电状态下，正压隔膜阀和负压隔膜阀处在关闭状态，所述排水电磁阀在通电状态下，排液隔膜阀处在打开状态，过滤器处在正压状态，排水电磁阀在断电状态下，排液隔膜阀处在关闭状态。