[发明专利]一种高折光材料及其合成方法有效
申请号: | 201710263305.5 | 申请日: | 2017-04-20 |
公开(公告)号: | CN107226908B | 公开(公告)日: | 2020-10-13 |
发明(设计)人: | 李泽;田堃;杨雄发;郝超伟;来国桥;蒋剑雄;邱化玉 | 申请(专利权)人: | 杭州师范大学 |
主分类号: | C08G77/16 | 分类号: | C08G77/16;C08G77/20;C08G77/24;C08G77/26 |
代理公司: | 杭州杭诚专利事务所有限公司 33109 | 代理人: | 王江成 |
地址: | 311121 浙江省杭*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 折光 材料 及其 合成 方法 | ||
本发明涉及高折光材料技术领域,为解决基于聚倍半硅氧烷开发高折光材料时存在的易交联、易升华、不易溶、不易加工等问题,本发明提出了一种高折光材料及其合成方法,所述高折光材料为具有结构式如(I)所示的聚合物1,或者具有结构式如(II)所示的聚合物2,或者具有结构式如(III)所示的聚合物3,这种高折光材料具有优异热稳定性,并且不易升华、易溶于常见溶剂、易加工,可进一步进行化学修饰。
技术领域
本发明涉及高折光材料技术领域,特别是涉及基于聚倍半硅氧烷的高折光材料。
背景技术
高折光材料在发光二极管包封材料方面具有重要用途。聚倍半硅氧烷具有耐热、耐氧化、耐紫外光辐射等优点,是高折光材料中重要的高分子基体材料。聚倍半硅氧烷通常以笼型、环形、支化等结构用于开发高折光材料。但是,这些结构的聚倍半硅氧烷通常存在着易交联、易升华、不易溶、不易加工等缺点。如J-S Kim等人发表在Chemistry ofMaterials上的文章(Chemistry of Materials,2010,22,3549-3555),以两个多官能团化合物为原料制备得到高折光材料,但是合成过程中易发生交联,导致产品加工性能不佳。又如M.Unno等人发表在Organometallics上的文章(Organometallics,2014,33,4148-4151)证明笼型与环形聚倍半硅氧烷存在着易升华的问题。
发明内容
为解决基于聚倍半硅氧烷开发高折光材料时存在的易交联、易升华、不易溶、不易加工等问题,本发明提出了一种高折光材料及其合成方法,这种高折光材料具有优异热稳定性,并且不易升华、易溶于常见溶剂、易加工,可进一步进行化学修饰。
本发明是通过以下技术方案实现的:所述高折光材料为具有结构式如(I)所示的聚合物1,或者具有结构式如(II)所示的聚合物2,或者具有结构式如(III)所示的聚合物3,
上式中,X、Y、Z分别独立地选自氢、烷基、烯基、炔基、芳香基、环氧基、酯基、磺酸基、羧基、腈基、卤代烷基、卤代烯基、卤代炔基、巯基、硝基、胺基、C60中一种;R选自氢、烷基硅基、烯基硅基、炔基硅基、烷氧基硅基、芳香基硅基、环氧基硅基、酯基硅基、磺酸基硅基、羧基硅基、腈基硅基、卤代烷基硅基、卤代烯基硅基、卤代炔基硅基、巯基硅基、硝基硅基、胺基硅基、C60硅基中一种;a、b、c、d、e、f、g、h、i、j、k、m、n、p、q为等于0或者大于0的整数。
所述的高折光材料的合成方法为以下步骤:
(1)结构式如(IV)所示的双甲板型多面体低聚倍半硅氧烷在催化剂A的催化下在有机溶剂中发生聚合反应,经过后处理,得到结构式如(I)所示的聚合物1。结构式如(IV)所示的双甲板型多面体低聚倍半硅氧烷的结构一边为氢,另一边为两个平行硅羟基。
反应结构式为:
(2)聚合物1与两键或三键化合物,在催化剂A的作用下在有机溶剂中反应,经过后处理,得到结构式如(II)所示的聚合物2,反应结构式为:
(3)聚合物2与结构式如(V)所示的硅烷,在催化剂B的作用下在有机溶剂中反应,经过后处理,得到结构式如(III)所示的聚合物3,反应结构式为:
结构式(V)中A选自卤素、拟卤素、氢、烷氧基中一种;B、C、D分别独立地选自氢、烷基、烯基、炔基、芳香基、环氧基、酯基、磺酸基、羧基、腈基、卤代烷基、卤代烯基、卤代炔基、巯基、硝基、胺基、C60中一种。
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