[发明专利]一种高折光材料及其合成方法

权利要求书

1.一种高折光材料的合成方法，其特征在于，所述高折光材料为具有结构式如(I)所示的聚合物1，或者具有结构式如(II)所示的聚合物2，或者具有结构式如(III)所示的聚合物3，

所述的合成方法为以下步骤：

(1)结构式如(IV)所示的双甲板型多面体低聚倍半硅氧烷在催化剂A的催化下在有机溶剂中发生聚合反应，经过后处理，得到结构式如(I)所示的聚合物1；

(2)聚合物1与两键或三键化合物，在催化剂A的作用下在有机溶剂中反应，经过后处理，得到结构式如(II)所示的聚合物2；

(3)聚合物2与结构式如(V)所示的硅烷，在催化剂B的作用下在有机溶剂中反应，经过后处理，得到结构式如(III)所示的聚合物3，

上式中，X、Y、Z分别独立地选自氢、烷基、烯基、炔基、芳香基、环氧基、酯基、磺酸基、羧基、腈基、卤代烷基、卤代烯基、卤代炔基、巯基、硝基、胺基、C₆₀中一种；R选自氢、烷基硅基、烯基硅基、炔基硅基、烷氧基硅基、芳香基硅基、环氧基硅基、酯基硅基、磺酸基硅基、羧基硅基、腈基硅基、卤代烷基硅基、卤代烯基硅基、卤代炔基硅基、巯基硅基、硝基硅基、胺基硅基、C₆₀硅基中一种；a为大于1的整数；b、c、d为等于0或者大于0的整数；e、f、g、h、i、j、k、m、n、p、q等于0，

结构式(V)中A选自卤素、拟卤素、氢、烷氧基中一种；B、C、D分别独立地选自氢、烷基、烯基、炔基、芳香基、环氧基、酯基、磺酸基、羧基、腈基、卤代烷基、卤代烯基、卤代炔基、巯基、硝基、胺基、C₆₀中一种；

所述有机溶剂选自烷烃、芳香烃、醚类、环醚类、酮类中一种或几种，所述的催化剂A选自路易斯酸、金属单质、金属氧化物、金属盐、络合物中一种，结构式如(IV)所示的双甲板型多面体低聚倍半硅氧烷与催化剂A的质量比为1∶0.001～1。

2.根据权利要求1所述的高折光材料的合成方法，其特征在于，聚合物1与催化剂A的质量比为1∶0.001～1，两键或三键化合物与聚合物1的质量比为1∶0.001～10，两键或三键化合物选自烯基、炔基、羰基化合物中一种。

3.根据权利要求1所述的高折光材料的合成方法，其特征在于，所述的催化剂B选自无机氨、有机胺、季铵碱，路易斯酸、金属单质、金属氧化物、金属盐、络合物中一种。

4.根据权利要求1或3所述的高折光材料的合成方法，其特征在于，结构式如(V)所示的硅烷与催化剂B的质量比为1∶0.001～10，与聚合物2的质量比为1∶0.001～10。

5.根据权利要求1所述的高折光材料的合成方法，其特征在于，反应温度为-20～140℃，反应时间为30分钟～24小时。

6.根据权利要求1所述的高折光材料的合成方法，其特征在于，后处理过程为重结晶、沉淀、色谱、升华或者真空烘干。