[发明专利]一种金属线栅偏振片基板及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种金属线栅偏振片基板及其制备方法。

背景技术

线性偏振片是显示面板中的一个重要器件，可以将自然光变成线性偏振光，偏振光的偏振方向与线性偏振片的偏振方向一致。现有的一种线性偏振片如图1所示，为金属线栅偏振片(Wire Grip Polarizer，WGP)的结构，包括衬底基板011，位于衬底基板011上的金属线栅012，覆盖金属线栅012的保护层013。其中，金属线栅012包括由一排平行的金属线121，沿金属线121的方向为透射方向，入射光可分解为振动方向与透射方向平行的光和振动方向与透射方向垂直的光，振动方向与透射方向垂直的光无法透过，振动方向与透射方向平行的光可以透过，因而可以得到沿透射方向偏振的线性偏振光。图1所示的金属线栅偏振片基板的结构中，实际生产工艺中，由于金属线栅012是相对衬底基板凸起的结构，即使覆盖了较厚的保护层013，在偏振片的表面实际仍然会存在凹凸不平的问题，平整度较差。

发明内容

本发明实施例的目的是提供一种金属线栅偏振片基板及其制作方法，用于解决现有的金属线栅偏振片的表面平整度较差的问题。

本发明实施例的目的是通过以下技术方案实现的：

一种金属线栅偏振片基板，包括：衬底基板和金属线栅；其中，所述金属线栅由平行排列的多条金属线构成，用于使透过的光成为线性偏振光；所述衬底基板的一侧表面具有多个凹槽，所述多条金属线分别设置于所述衬底基板的多个凹槽内，且所述多条金属线的表面与所述衬底基板具有凹槽的一侧表面齐平。

较佳地，所述金属线栅的材料为铝、钛或者银。

较佳地，所述金属线的线宽的范围是50～200nm；所述金属线的厚度的范围是50～400nm。

较佳地，还包括覆盖所述金属线栅的保护层。

较佳地，还包括位于所述保护层上的薄膜晶体管TFT阵列。

一种如以上任一项所述的金属线栅偏振片基板的制作方法，该方法包括：

采用构图工艺在所述衬底基板的一侧表面刻蚀多个凹槽的图形；

在所述衬底基板刻蚀有多个凹槽的图形的表面上覆盖一整层金属薄膜；所述金属薄膜的厚度大于所述凹槽的深度；

至少将所述金属薄膜凸出于所述衬底基板的表面减薄，以形成设置于所述衬底基板的多个凹槽内的金属线栅的图形；其中，所述金属线栅由平行排列的多条金属线构成；所述多条金属线分别设置于所述衬底基板的多个凹槽内；所述多条金属线的表面与所述衬底基板具有凹槽的一侧表面齐平。

较佳地，至少将所述金属薄膜凸出于所述衬底基板的表面减薄，包括：

将所述金属薄膜减薄的同时，将所述衬底基板刻蚀有凹槽图形的一侧表面减薄。

较佳地，至少将所述金属薄膜凸出于所述衬底基板的表面减薄，包括：

利用化学机械研磨技术，至少将所述金属薄膜凸出于所述衬底基板的表面减薄。

较佳地，所述采用构图工艺在所述衬底基板的一侧表面刻蚀多个凹槽的图形，包括：

在所述衬底基板的一侧表面涂覆光刻胶层，并对所述光刻胶层曝光显影，形成与凹槽的图形对应的图形；

利用所述光刻胶层中与凹槽的图形对应的图形和干法刻蚀工艺，对所述衬底基板的一侧表面进行刻蚀，形成多个凹槽的图形。

较佳地，在所述衬底基板刻蚀有多个凹槽的图形的表面上覆盖一整层金属薄膜，包括：

利用低压化学气相沉积技术，在所述衬底基板刻蚀有多个凹槽的图形的表面上沉积一整层金属薄膜。

本发明实施例的有益效果如下：

本发明实施例提供的金属线栅偏振片基板及其制作方法中，金属线栅的各金属线设置在衬底基板的一侧表面的各个凹槽内，且多条金属线的表面与衬底基板具有凹槽的一侧表面齐平，使得金属线栅偏振片基板的整个表面平整，与现有技术相比，提高了平整度。并且，在生产工艺中，需要在衬底基板上刻蚀凹槽，与现有技术中进行凸起的金属线栅的刻蚀相比，刻蚀凹槽的工艺更加简单可控，从而使得金属线栅的金属线的均匀性更好。

附图说明

图1为现有技术中的一种金属线栅偏振片基板的结构示意图。

图2为本发明实施例提供的一种金属线栅偏振片基板的结构示意图之一；

图3为本发明实施例提供的一种衬底基板的凹槽的结构示意图；

图4为本发明实施例提供的一种金属线栅偏振片基板的俯视图；

图5为本发明实施例提供的一种金属线栅偏振片基板的结构示意图之二；