[发明专利]一种超声波清洗装置及基板处理系统有效

专利信息
申请号: 201710258646.3 申请日: 2017-04-19
公开(公告)号: CN107020285B 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 郭淳;刘建辉;孟盼盼;冯忠;李鹏;许道先;周庆高;钟亮;董康旭;刘祖宏;侯智 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司
主分类号: B08B11/04 分类号: B08B11/04;B08B5/02;B08B5/04;B08B13/00;H01L21/67
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 超声波 清洗 装置 处理 系统
【说明书】:

发明提供一种超声波清洗装置及基板处理系统,涉及显示技术领域,该超声波清洗装置对基板的吹扫清洁效率高,并且当该清洗装置具体应用于基板处理系统中时,可以显著提高进入处理装置内的基板的表面清洁度,避免基板表面经过处理后产生大量杂质残留。该超声波清洗装置包括,吹气单元,用于向待清洗的物体表面喷出气流;超声波振荡发生器,用于使从吹气单元中喷出的气流发生振荡;抽气单元,用于收集从待清洗的物体表面吹扫出的杂质。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种超声波清洗装置及基板处理系统。

背景技术

在显示产品的制造过程中需要对基板的表面进行清洗,以对基板进行进一步处理。由于基板表面不是绝对光滑的而是存在着许多非常微小的缝隙,杂质颗粒(Particle)等进入缝隙处后,利用现有的形成气刀的吹气装置对其进行吹扫难以将缝隙处中的杂质颗粒吹扫出来,从而导致后续对基板进行进一步处理时,在基板表面产生大量的杂质残留(Remain),影响产品品质。

发明内容

鉴于此,为解决现有技术的问题,本发明的实施例提供一种超声波清洗装置及基板处理系统,该超声波清洗装置对基板的吹扫清洁效率高,并且当该清洗装置具体应用于基板处理系统中时,可以显著提高进入处理装置内的基板的表面清洁度,避免基板表面经过处理后产生大量杂质残留。

为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:

一方面、本发明实施例提供了一种超声波清洗装置,包括,吹气单元,用于向待清洗的物体表面喷出气流;超声波振荡发生器,用于使从所述吹气单元中喷出的所述气流发生振荡;抽气单元,用于收集从所述待清洗的物体表面吹扫出的杂质。

可选的,所述吹气单元包括,压力腔和气体供应端;其中,所述压力腔上设置有进气口和喷嘴;所述气体供应端与所述进气口连通,用于向所述压力腔内提供气体;所述喷嘴用于向待清洗的物体表面喷出气流。

可选的,所述抽气单元包括,吸附腔、连接管路和抽气组件;其中,所述抽气组件用于通过所述连接管路使所述吸附腔内产生负压;所述吸附腔上设置有吸入口,用于通过所述吸入口收集从所述待清洗的物体表面吹扫出的杂质。

优选的,所述抽气组件包括,真空泵,用于使吸附腔内产生真空吸附效果。

优选的,所述喷嘴包括,狭缝喷嘴;所述抽气单元中的所述吸附腔设置在沿所述狭缝喷嘴的长度方向的两侧中的至少一侧处。

优选的,所述喷嘴包括,狭缝喷嘴;所述超声波振荡发生器设置在所述压力腔内,且位于所述狭缝喷嘴的长度方向的两侧中的至少一侧处。

优选的,所述喷嘴的开口与所述吸入口的开口设置在同一平面内。

另一方面、本发明实施例还提供了一种基板处理系统,包括,用于处理基板的处理装置;所述基板处理系统还包括,设置在待处理的基板进入所述处理装置入口处的上述任一项所述的超声波清洗装置,用于对所述待处理基板的待处理面进行清洗。

可选的,所述处理装置包括,负载锁定腔室;所述超声波清洗装置设置在所述负载锁定腔室的门上;所述处理装置还包括,用于驱动所述负载锁定腔室的门开启和关闭的驱动气缸和向所述驱动气缸提供压缩气体的供气缸;所述驱动气缸包括,气缸排气口;所述气缸排气口、所述供气缸均与所述超声波清洗装置的吹气单元连通,用于向所述吹气单元提供气体。

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