[发明专利]SADP友好互连结构轨迹生成的方法、系统及程序产品在审

专利信息
申请号: 201710252666.X 申请日: 2017-04-18
公开(公告)号: CN108062426A 公开(公告)日: 2018-05-22
发明(设计)人: H·纳里塞特伊;J·李;S·阿罗拉 申请(专利权)人: 格罗方德半导体公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 英属开曼群*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: sadp 友好 互连 结构 轨迹 生成 方法 系统 程序 产品
【说明书】:

发明涉及SADP友好互连结构轨迹生成的方法、系统及程序产品,其中,一种方法包括提供半导体互连实施工具,以及通过使用本文中所述并结合该半导体互连实施工具的一项或多项自对准双重图案化友好规则的其中任意一项、组合或全部来设计至少两个布线层,各布线层具有多条布线,该些布线包括具有默认宽度的一条或多条线以及具有非默认宽度的一条或多条线。本发明还提供对应该方法的系统及程序产品。

相关申请的交叉参考

本申请依据35 U.S.C.§119要求2016年4月19日提交的美国临时申请号62/324,827的优先权,其整体通过参考包含于此。

技术领域

本发明通常涉及自对准双重图案化(self-aligned double-patterning;SADP)。尤其,本发明涉及用于互连结构轨迹生成的规则,以减少或消除下游SADP制程中的错误。

背景技术

SADP(也被称为“间隙壁技术”或“侧壁图像转移技术”)要求各分解具有高度规则的布局。过去,这通过设计人员针对设计的整个宽度仅使用默认宽度布线或非默认宽度布线来实现,但在设计的区域中包括非默认宽度布线以及默认布线可能是必要的,以符合不同的需求。不过,这样做导致分解问题,这些问题难以预见。由于潜在的损失时间及相关成本,试验及错误(trial and error)解决方案也是不实际的。

因此,需要减少或消除互连结构轨迹生成的SADP错误。

发明内容

本发明实施一系列规则以在实施工具中引导轨迹生成,从而确保布线器(router)仍可执行共存于同一设计中的基于轨迹的默认及非默认宽度布线(default and non-default width route),同时确保所得布局足够规则,以实现一次成功的SADP(自对准双重图案化)分解。

在同一布局中具有默认及非默认宽度布线而没有布线经对准以对于SADP为正确的定向多边形边将需要昂贵的轨迹转换结构,这是自动工具难以规划的。

为克服现有技术的缺点并提供额外的优点,在一个态样中提供一种用于半导体设计的布线方法。该方法包括提供半导体互连实施工具,以及通过结合该半导体互连实施工具使用至少一项自对准双重图案化友好规则来设计至少两个布线层,各布线层具有多条布线,该多条布线包括具有默认宽度的至少一条线以及具有非默认宽度的至少一条线。

在另一个态样中,提供一种系统。该系统包括半导体互连实施工具(semiconductor interconnect implementation tool;SIIT),该半导体互连实施工具包括存储器,以及与该存储器通信以执行一种方法的至少一个处理器。该方法包括:通过结合该半导体互连实施工具使用至少一项自对准双重图案化友好规则来设计至少两个布线层,各布线层具有多条布线,该多条布线包括具有默认宽度的至少一条线以及具有非默认宽度的至少一条线。

在又一个态样中,提供一种电脑程序产品。该电脑程序产品包括物理储存媒体,其可由处理器读取并储存指令以由该处理器执行,从而执行一种方法,该方法包括提供半导体互连实施工具,以及通过结合该半导体互连实施工具使用至少一项自对准双重图案化友好规则来设计至少两个布线层,各布线层具有多条布线,该多条布线包括具有默认宽度的至少一条线以及具有非默认宽度的至少一条线。

从下面结合附图所作的本发明的各种态样的详细说明将很容易了解本发明的额外特征及优点。

附图说明

图1显示依据本发明的一个或多个态样的半导体布线层的一个简化高级例子,该半导体布线层包括水平布线轨迹以及覆盖两条布线轨迹的两个多边形,各多边形为“网(net)”并代表可能布线的预定位置,该两条布线轨迹足够接近,以致被认为重叠。

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