[发明专利]SADP友好互连结构轨迹生成的方法、系统及程序产品在审
申请号: | 201710252666.X | 申请日: | 2017-04-18 |
公开(公告)号: | CN108062426A | 公开(公告)日: | 2018-05-22 |
发明(设计)人: | H·纳里塞特伊;J·李;S·阿罗拉 | 申请(专利权)人: | 格罗方德半导体公司 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;王锦阳 |
地址: | 英属开曼群*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | sadp 友好 互连 结构 轨迹 生成 方法 系统 程序 产品 | ||
1.一种方法,包括:
提供半导体互连实施工具;以及
通过结合该半导体互连实施工具使用至少一项自对准双重图案化友好规则来设计至少两个布线层,各布线层具有多条布线,该多条布线包括具有默认宽度的至少一条线以及具有非默认宽度的至少一条线。
2.如权利要求1所述的方法,其中,该至少一项自对准双重图案化友好规则包括:
对于该至少两个布线层的至少其中一个,防止该多条布线轨迹的其中任意两条相邻布线轨迹重叠;以及
向各默认轨迹分配多个预定宽度的其中一个。
3.如权利要求1所述的方法,其中,该至少一项自对准双重图案化友好规则包括针对所有连续轨迹执行间距检查。
4.如权利要求1所述的方法,其中,该至少一项自对准双重图案化友好规则包括:针对允许非默认宽度的各默认宽度轨迹,向其分配一个或多个非默认宽度。
5.如权利要求1所述的方法,其中,该至少一项自对准双重图案化友好规则包括:针对各非默认宽度布线轨迹,将宽度定义为轨迹属性。
6.如权利要求1所述的方法,其中,该至少一项自对准双重图案化友好规则包括:针对具有指定非默认宽度的给定轨迹上的布线,各布线与该给定轨迹的宽度匹配。
7.如权利要求1所述的方法,其中,该至少一项自对准双重图案化友好规则包括:如果一对相邻默认宽度轨迹的上方及下方的下一条相邻轨迹为默认宽度轨迹,则在该对相邻默认宽度轨迹之间形成具有3倍默认宽度/间距轨迹的虚拟轨迹。
8.如权利要求1所述的方法,其中,该至少一项自对准双重图案化友好规则包括:
对于该至少两个布线层的至少其中一个,防止该多条布线轨迹的其中任意两条相邻布线轨迹重叠并向各默认轨迹分配多个预定宽度的其中一个;
针对所有连续轨迹执行间距检查;
针对允许非默认宽度的各默认宽度轨迹,向其分配一个或多个非默认宽度;
针对各非默认宽度布线轨迹,将宽度定义为轨迹属性;
针对具有指定非默认宽度的给定轨迹上的布线,各布线与该给定轨迹的宽度匹配;以及
如果一对相邻默认宽度轨迹的上方及下方的下一条相邻轨迹为默认宽度轨迹,则在该对相邻默认宽度轨迹之间形成具有3倍默认宽度/间距轨迹的虚拟轨迹。
9.一种系统,包括:
半导体互连实施工具(SIIT),该半导体互连实施工具包括:
存储器;以及
至少一个处理器,与该存储器通信以执行一种方法,该方法包括:
通过结合该半导体互连实施工具使用至少一项自对准双重图案化友好规则来设计至少两个布线层,各布线层具有多条布线,该多条布线包括具有默认宽度的至少一条线以及具有非默认宽度的至少一条线。
10.如权利要求9所述的系统,该方法还包括:对于该至少两个布线层的至少其中一个,防止该多条布线轨迹的其中任意两条相邻布线轨迹重叠。
11.如权利要求9所述的系统,该方法还包括针对所有连续轨迹执行间距检查。
12.如权利要求9所述的系统,该方法还包括:针对可允许非默认宽度的各默认宽度轨迹,向其分配一个或多个非默认宽度。
13.如权利要求9所述的系统,该方法还包括:针对各非默认宽度布线轨迹,将宽度定义为轨迹属性。
14.如权利要求9所述的系统,该方法还包括:针对具有指定非默认宽度的给定轨迹上的布线,各布线与轨迹的宽度匹配。
15.如权利要求9所述的系统,该方法还包括:向各默认轨迹分配多个预定宽度的其中一个。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于格罗方德半导体公司,未经格罗方德半导体公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710252666.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。