[发明专利]一种反射镜及曝光装置

说明书

本发明公开了一种反射镜及曝光装置，包括透明衬底基质，位于透明衬底基质入光表面的用于反射设定波长光线的全电介质反射膜；其中，透明衬底基质中分散有能够受激发射设定波长光线的粒子。在透明衬底基质表面设置全电介质反射膜可以对设定波长的光线高效反射；而在反射镜的透明衬底基质中分散可受激辐射的粒子，可以将光源中其它波长的光线转化为设定波长的光线，增加了设定波长光线的出射，提高了对光源出射光的利用率，避免能源浪费。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种反射镜及曝光装置。

背景技术

反射镜是一种按照反射定律改变光学路径的一种光学元件，在光学系统、工艺制造甚至是日常生活中应用非常广泛。目前的光学反射镜一般可分为两类，一类是金属反射膜的光学反射镜，一类是全电介质反射膜的光学反射镜。此外，还有把两者结合起来的金属电介质反射膜的光学反射镜。金属反射膜的光学反射镜的优点是制备工艺简单，工作的波长范围宽；缺点是光损大，反射率不可能很高。而全电介质反射镜是利用多光束干涉原理，增加光学表面的反射率。

而在工艺制造领域所使用的反射镜通常只需要其尽可能高地反射某一波段或者设定波长的光。例如，在液晶显示屏制造领域中曝光工艺所需要的光主要为365nm的紫外线，而在曝光工艺中所使用的光源——高压汞灯可发射1-800nm范围内的电磁波。除所需要的365nm的紫外光之外的其它波长的光在反射过程中大都转化为热能散失，因此，现阶段所使用的反射镜对设定波长光线的反射率不够高，导致了对光源的利用率小，能源浪费严重。

发明内容

本发明实施例提供了一种反射镜及曝光装置，用以提升光源出射光中设定波长光线的利用率。

第一方面，本发明实施例提供一种反射镜，包括：透明衬底基质，位于所述透明衬底基质入光表面的用于反射设定波长光线的全电介质反射膜；其中，

所述透明衬底基质中分散有能够受激发射所述设定波长光线的粒子。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述反射镜中，所述全电介质反射膜包括：多层交替堆叠的第一介质层和第二介质层；

所述第一介质层的折射率均大于所述第二介质层的折射率、所述透明衬底基质的折射率以及外界环境介质的折射率；

所述透明衬底基质的折射率大于所述第二介质层的折射率。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述反射镜中，与所述透明衬底基质相邻的介质层为所述第二介质层；距离所述透明衬底基质最远的介质层为所述第一介质层。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述反射镜中，所述第一介质层的厚度满足以下关系式：

e_H＝λ/4n_H；其中，e_H为所述第一介质层的厚度，λ为所述设定波长，n_H为所述第一介质层的折射率；

所述第二介质层的厚度满足以下关系式：

e_L＝λ/4n_L；其中，e_L为所述第二介质层的厚度，λ为所述设定波长，n_L为所述第二介质层的折射率。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述反射镜中，分散在所述透明衬底基质中的能够受激发射所述设定波长光线的所述粒子为稀有金属粒子或稀土离子。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述反射镜中，所述透明衬底基质为光学玻璃。

在一种可能的实现方式中，在本发明实施例提供的上述反射镜中，还包括：位于所述透明衬底基质背离所述全电介质反射膜一侧的光电转换层。