[发明专利]一种ITO刻蚀废液的处理工艺及处理设备在审

专利信息
申请号: 201710240883.7 申请日: 2017-04-13
公开(公告)号: CN106865725A 公开(公告)日: 2017-06-20
发明(设计)人: 倪进娟 申请(专利权)人: 合肥茂腾环保科技有限公司
主分类号: C02F1/66 分类号: C02F1/66;C22B7/00;C22B25/06;C22B58/00;C02F103/34
代理公司: 合肥市上嘉专利代理事务所(普通合伙)34125 代理人: 姜玲燕,王伟
地址: 230012 安徽省*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 ito 刻蚀 废液 处理 工艺 设备
【说明书】:

技术领域

发明涉及废液的处理领域,具体地说涉及一种ITO刻蚀废液的处理工艺及处理设备。

背景技术

液晶显示器现已成为技术密集、资金密集型的高新技术产业,透明导电玻璃则是LCD的三大主要材料之一。液晶显示器之所以能显示特定的图形,就是利用导电玻璃上的透明导电膜,经蚀刻制成特定形状的电极,上下导电玻璃制成液晶盒后,在这些电极上加适当电压信号,使具有偶概矩的液晶分子在电场作用下特定的方面排列,进而显示出与电极波长相对应的图形。

在氧化物导电膜中,以掺Sn(锡)的In2O3(ITO)膜的透过率最高和导电性能最好,而且容易在酸液中蚀刻出徴细的图形,其透过率已达90%以上。在LCD生产工艺中,需要使用高温烘烤及各种酸破液的浸泡,因此产生了大量的含氧化铟锡的ITO刻蚀液废液。

此类ITO刻蚀液通常为两种以上的酸混合而成,通常是硫酸、盐酸或者硝酸等,单酸含量小于7%,累计酸含量不超过20%。经过刻蚀工段后因刻蚀的铟锡,其废液中含有铟和锡离子。铟锡的含量为50ppm左右。此类废液通常采取中和处理后再经生化系统的方法无害化处理,其中的铟锡进入污泥中被浪费。

目前化工行业内针对中和处理酸碱废水的工艺很多,但是针对此类ITO刻蚀废液的中和处理工艺较少,ITO刻蚀废液中的金属离子含量较大,酸的腐蚀性和总酸度很高,在中和处理过程中会放出大量的热,温度剧烈上升,很难控制反应过程中的温度及pH变化,存在一定危险性。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是提供一种能够有效地控制反应过程中的温度及pH变化的ITO刻蚀废液的处理工艺,以及可用实施该工艺的ITO刻蚀废液的处理设备。

为了解决上述技术问题,本发明采用如下技术方案:一种ITO刻蚀废液的处理工艺,包括以下步骤:

(1)向反应容器内加入液碱,然后进行稀释处理;

(2)向所述反应容器内缓慢加入ITO刻蚀废液,至pH值达到9~10,反应一段时间;

(3)向所述反应容器内缓慢加入ITO刻蚀废液,至pH值达到7~7.5,反应一段时间。

进一步地,还包括步骤(4)对反应液进行过滤处理。

一种ITO刻蚀废液的处理设备,包括液碱储罐、反应罐以及第一输送机构;所述液碱储罐与所述第一输送机构的进料口和出料口之间分别连接有第一输料管道和第二输料管道,所述反应罐与所述第一输送机构的进料口和出料口之间分别连接有第三输料管道和第四输料管道。

进一步地,还包括上清液外排管道,所述上清液外排管道的一端插接在所述反应罐内、另一端与所述第一输送机构的进料口连通。

进一步地,还包括达标水罐,所述达标水罐与所述第一输送机构的出料口之间连接有上清液输送管。

进一步地,还包括沉淀外排管道,所述沉淀外排管道与所述第一输送机构的出料口连通。

进一步地,还包括与第一输送机构的进料口连通的液碱进料管道。

进一步地,所述第一输送机构包括两台相互并联的第一抽液泵。

进一步地,还包括ITO刻蚀废液储罐以及第二输送机构,所述ITO刻蚀废液储罐与所述第二输送机构的进料口之间连接有第五输料管道,所述反应罐与所述第二输送机构的出料口之间连接有第六输料管道。

进一步地,所述第二输送机构包括两台相互并联的第二抽液泵。

本发明的有益效果为:

本发明ITO刻蚀废液的处理工艺采取反向调节,通过在液碱中加入ITO刻蚀废液来反应,并分步加入ITO刻蚀液废液,且本发明先对液碱进行稀释,然后与ITO刻蚀废液进行反应,温度上升幅度减小,且温度会随着液碱浓度和ITO刻蚀废液浓度的降低而减小,不会造成温度剧烈上升,能够有效地控制反应过程中的温度及pH变化,可以很容易调节反应至pH值为7左右,安全性高。

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