[发明专利]一种过孔的尺寸测量方法及测量设备在审
申请号: | 201710224129.4 | 申请日: | 2017-04-07 |
公开(公告)号: | CN106989681A | 公开(公告)日: | 2017-07-28 |
发明(设计)人: | 叶巧云 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G01B11/08 | 分类号: | G01B11/08 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙)44280 | 代理人: | 李庆波 |
地址: | 518006 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 尺寸 测量方法 测量 设备 | ||
1.一种过孔的尺寸测量方法,其特征在于,包括:
获取所述过孔及其周边区域的图像;
在所述图像中设置一图像抓取框;
沿预设方向根据所述图像的像素的灰阶绘出变化曲线;
在所述变化曲线中设定中间基准点;
在所述变化曲线上以所述中间基准点为起点分别向两侧搜索满足预设条件的波峰;
根据所述中间基准点两侧的所述波峰之间的距离计算所述过孔沿所述预设方向的尺寸。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在所述变化曲线中设定中间基准点的步骤包括:
根据所述图像抓取框的几何中心设置所述中间基准点。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在所述变化曲线中设定中间基准点的步骤包括:
在所述图像中识别出所述过孔;
根据所述过孔的几何中心设置所述中间基准点。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述在所述变化曲线上以所述中间基准点为起点分别向两侧搜索满足预设条件的波峰的步骤包括:
以所述中间基准点为起点分别向两侧搜索最靠近所述中间基准点的所述波峰。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述波峰的峰值大于预设阈值。
6.根据权利要求1-5任一项所述的方法,其特征在于,所述过孔为形成于显示面板上的面内过孔。
7.一种过孔的尺寸测量设备,其特征在于,包括:
成像设备,用于拍摄所述过孔及其周边区域的图像;
存储器,用于存储预设程序;
处理器,用于通过运行所述预设程序执行以下步骤:
获取所述过孔及其周边区域的图像;
在所述图像中设置一图像抓取框;
沿预设方向根据所述图像的像素的灰阶绘出变化曲线;
在所述变化曲线中设定中间基准点;
在所述变化曲线上以所述中间基准点为起点分别向两侧搜索满足预设条件的波峰;
根据所述中间基准点两侧的所述波峰之间的距离计算所述过孔沿所述预设方向的尺寸。
8.根据权利要求7所述的设备,其特征在于,所述在所述变化曲线中设定中间基准点的步骤包括:
根据所述图像抓取框的几何中心设置所述中间基准点。
9.根据权利要求7所述的设备,其特征在于,所述在所述变化曲线中设定中间基准点的步骤包括:
在所述图像中识别出所述过孔;
根据所述过孔的几何中心设置所述中间基准点。
10.根据权利要求7所述的设备,其特征在于,所述在所述变化曲线上以所述中间基准点为起点分别向两侧搜索满足预设条件的波峰的步骤包括:
以所述中间基准点为起点分别向两侧搜索最靠近所述中间基准点且峰值大于预设阈值的所述波峰。
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