[发明专利]一种掩膜板及其制备方法以及蒸镀方法有效
| 申请号： | 201710220563.5 | 申请日： | 2017-04-06 |
| 公开（公告）号： | CN108690949B | 公开（公告）日： | 2020-05-22 |
| 发明（设计）人： | 张秀玉;党鹏乐;张小宝;高美玲;顾宇;朱晖 | 申请（专利权）人： | 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司;昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/04 | 分类号： | C23C14/04;C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 张杰 |
| 地址： | 215300 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 掩膜板 及其 制备 方法 以及 | ||
1.一种掩膜板，其特征在于，包括图案化后的光刻胶膜(1)，所述光刻胶膜(1)作为蒸镀用掩膜板，所述光刻胶膜(1)厚度为0.12～0.25mm；所述光刻胶膜(1)包括基体材料和掺杂在所述基体材料中的光敏剂，所述光敏剂占所述基体材料的质量比为0.1wt％～5wt％。
2.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述光刻胶膜(1)贴附在离型膜(4)上，所述离型膜(4)厚度为0.1～0.2mm。
3.根据权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，所述基体材料为聚酰亚胺、聚甲基丙烯酸甲酯、环烯烃聚合物、聚对苯二甲酸乙二醇酯中的至少一种；所述光敏剂为水杨脂酸苯脂和/或重氮萘醌磺酸酯。
4.一种如权利要求1～3任一项所述的掩膜板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤:
形成光刻胶层；
通过光刻工艺对所述光刻胶层进行图案化。
5.根据权利要求4所述的掩膜板的制备方法，其特征在于，还包括将图案化后的所述光刻胶层进行离型膜(4)封装的步骤。
6.一种蒸镀方法，其特征在于，包括以下步骤：
将权利要求1～3任一项所述的掩膜板贴附于待蒸镀屏体(2)上；
蒸发蒸发源(3)中的材料，在所述屏体(2)上形成蒸镀层；
对所述掩膜板进行紫外光照射、剥离。
7.根据权利要求6所述的蒸镀方法，其特征在于，所述紫外光的亮度大于100mW/cm2，照射量大于300mJ/cm2。
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