[发明专利]一种蒸镀方法

说明书

技术领域

本发明涉及蒸镀技术领域，尤其涉及一种蒸镀方法。

背景技术

目前，比较成熟的工艺是利用蒸镀工艺制作OLED(Organic Light-Emitting Diode，有机发光二极管)显示产品。而在使用蒸镀掩膜版进行蒸镀的过程中，蒸镀掩膜版需要放置在待蒸镀基板和蒸镀源之间，且贴近待蒸镀基板，因此蒸镀之后，很容易有多余的材料残留在蒸镀掩膜版上，如果蒸镀掩膜版清洗的不干净，表面残留的材料很容易将待蒸镀基板划伤。而通常蒸镀源的材料在常温下既不溶于水又不溶于酸，只能与熔融碱类及热的浓磷酸反应。如此苛刻的选择条件给蒸镀掩膜版的清洗带来困难，清洗过程中产生的高热量也会使蒸镀掩膜版瞬间产生变形或带来损伤，如此一来产能会受到影响，成本也会提高。

综上所述，目前，现有的蒸镀工艺，使用蒸镀掩膜版进行蒸镀之后，很容易有材料残留到蒸镀掩膜版上，残留的材料很难清洗，而且表面残留的材料如果清洗不干净，又很容易将待蒸镀基板划伤。

发明内容

本发明的目的是提供一种蒸镀方法，用以解决目前现有的蒸镀工艺，使用蒸镀掩膜版进行蒸镀之后，很容易有材料残留到蒸镀掩膜版上，残留的材料很难清洗，而且表面残留的材料如果清洗不干净，又很容易将待蒸镀基板划伤的问题。

本发明实施例提供的一种蒸镀方法，该方法包括：

在蒸镀掩膜版上形成一层附加膜层；

使用形成有附加膜层的蒸镀掩膜版，在待蒸镀基板上蒸镀形成蒸镀膜层；

其中，所述附加膜层材料的活泼性强于所述蒸镀膜层材料的活泼性。

较佳的，该方法还包括：

在使用所述形成有附加膜层的蒸镀掩膜版至少进行一次蒸镀之后，使用清洗液对所述形成有附加膜层的蒸镀掩膜版进行清洗，直至将所述附加膜层清洗干净。

较佳的，所述使用清洗液对所述蒸镀掩膜版进行清洗，包括：

将所述蒸镀掩膜版置于盛有清洗液的容器中浸泡一定时长。

较佳的，所述清洗液为酸性溶液、碱性溶液、或有机物溶液。

较佳的，所述清洗液为醋酸或浓度小于5％的氢氧化钾溶液。

较佳的，所述在蒸镀掩膜版上形成一层附加膜层，包括：

在蒸镀掩膜版上远离所述待蒸镀基板的一侧形成一层附加膜层。

较佳的，所述附加膜层的材料为金属或两性氧化物。

较佳的，所述附加膜层的材料为下列材料之一或组合：

镁、钙、锌、铝或氧化铝。

较佳的，所述蒸镀膜层的材料为无机材料。

较佳的，所述待蒸镀基板为有机发光二极管OLED显示基板；

所述蒸镀膜层为光取出层，或封装层中的无机膜层。

本发明有益效果如下：

本发明实施例提供的蒸镀方法，在待蒸镀基板上蒸镀形成蒸镀膜层之前，先在蒸镀掩膜版上形成一层活泼性较强的附加膜层，因而在使用该蒸镀掩膜版进行蒸镀之后，如果有蒸镀膜层的材料残留，则会直接残留在附加膜层的表面上，由于附加膜层材料的活泼性强于蒸镀膜层材料的活泼性，因而可以更容易的将残留的材料清洗干净，避免其划伤待蒸镀基板。

附图说明

图1为本发明实施例提供的蒸镀方法的步骤流程图；

图2为本发明实施例提供的在蒸镀掩膜版上形成附加膜层的装置结构示意图；

图3为本发明实施例提供的使用形成有附加膜层的蒸镀掩膜版进行蒸镀的装置结构示意图；

图4为本发明实施例提供的清洗蒸镀掩膜版的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本发明一部分实施例，并不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

其中，附图中各个结构的大小和形状不反映其真实比例，目的只是示意说明本发明的内容。

本发明实施例提供的一种蒸镀方法，主要是对现有蒸镀方法的步骤进行的改进，是在现有使用蒸镀掩膜版进行蒸镀的基础上，在待蒸镀基板上蒸镀形成蒸镀膜层之前，先在蒸镀掩膜版上形成一层活泼性较强的附加膜层，因而在使用该蒸镀掩膜版进行蒸镀之后，如果有蒸镀膜层的材料残留，则会直接残留在附加膜层的表面上，由于附加膜层材料的活泼性强于蒸镀膜层材料的活泼性，因而可以更容易的将残留的材料清洗干净，避免其划伤待蒸镀基板。下面对本发明实施例提供的蒸镀方法进行详细的说明。