[发明专利]一种大尺寸拼接产品曝光方法有效
申请号: | 201710190123.X | 申请日: | 2017-03-27 |
公开(公告)号: | CN106842826B | 公开(公告)日: | 2018-08-28 |
发明(设计)人: | 李飞;吴鹏;郑海昌 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F7/22 |
代理公司: | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 吴世华;陈慧弘 |
地址: | 201210 上海市浦*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 尺寸 拼接 产品 曝光 方法 | ||
1.一种大尺寸拼接产品的曝光方法,其特征在于,包括以下步骤:
S1:将光罩划分为六个区域,分别为PIXEL1区、M1区、T1区、T2区、M2区和PIXEL2区,并且每个区域之间均有一条遮光带;
S2:在晶圆上选择出功能部分和非功能部分,所述功能部分为两组对称的完整功能单元拼接曝光而成,晶圆中除了功能部分剩余区域为非功能部分,所述非功能部分由非完整功能单元拼接曝光而成,所述非完整功能单元和完整功能单元尺寸相同;
S3:所述完整功能单元分为左右对称的M个区域,选取光罩中的六个区域依次拼接曝光形成完整功能单元;
S4:按照S3的操作,将功能部分中两组对称的完整功能单元全部拼接曝光;
S5:所述非完整功能单元分为左右对称的N个区域,N为大于4的偶数,选取光罩中的四个区域依次拼接曝光在所述非完整功能单元中最上方和最下方的4个区域,选取光罩中等于光刻机曝光尺寸的相邻区域依次拼接曝光在剩余的N-4个区域;
S6:按照S5的操作,将晶圆中非功能部分中非完整功能单元全部拼接曝光。
2.根据权利要求1所述的一种大尺寸拼接产品的曝光方法,其特征在于,所述光罩中的M1区、T1区、T2区和M2区均放置套刻对准标记。
3.根据权利要求1所述的一种大尺寸拼接产品的曝光方法,其特征在于,所述步骤S3中M=20时,选取光罩中T1区和M1区分别依次曝光在完整功能单元的左侧上方和下方,选取光罩中T2区和M2区分别依次曝光在完整功能单元的右侧上方和下方,在完整功能单元中T1区和M1区的中间依次曝光8次光罩中的PIXEL1区,在完整功能单元中T2区和M2区的中间依次曝光8次光罩中的PIXEL2区,形成左右各10个区域的完整功能单元。
4.根据权利要求1所述的一种大尺寸拼接产品的曝光方法,其特征在于,所述晶圆中功能部分含有6个完整功能单元,按照两排三列的方式拼接,并且两排完整功能单元之间留有间隙。
5.根据权利要求1所述的一种大尺寸拼接产品的曝光方法,其特征在于,所述晶圆中功能部分含有6个完整功能单元,按照三排两列的方式拼接,并且两列完整功能单元之间留有间隙。
6.根据权利要求1所述的一种大尺寸拼接产品的曝光方法,其特征在于,所述步骤S5中N=8,选取光罩中T1区和M1区分别依次曝光在非完整功能单元的左侧上方和下方,选取光罩中T2区和M2区分别依次曝光在非完整功能单元的右侧上方和下方,选取光罩中等于光刻机曝光尺寸的相邻区域依次拼接曝光在中间4个区域;其中左侧中间相同的两个区域记为A1区,右侧中间相同的两个区域记为A2区。
7.根据权利要求6所述的一种大尺寸拼接产品的曝光方法,其特征在于,所述A1区的曝光模板为光罩中按照从上到下的顺序等于光刻机曝光尺寸的相邻区域。
8.根据权利要求6所述的一种大尺寸拼接产品的曝光方法,其特征在于,所述A2区的曝光模板为光罩中按照从下到上的顺序等于光刻机曝光尺寸的相邻区域。
9.根据权利要求6所述的一种大尺寸拼接产品的曝光方法,其特征在于,水平方向上的A1区和A2区中遮光带的位置错开。
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