[发明专利]基体材料处理装置和基体材料处理方法

说明书

本发明涉及一种基体材料处理装置和基体材料处理方法，能够抑制干燥后的基体材料中产生的褶皱，以良好的状态处理基体材料。搬运部具有搬运构件，该搬运构件沿着搬运路径设置于干燥部的下游侧，且隔着气体层搬运基体材料。因此，使通过干燥部加热后的基体材料和常温的搬运构件之间的接触面积变小。结果，能够抑制基体材料中产生的褶皱。

技术领域

本发明涉及用于对主面供给有处理液的基体材料进行处理的技术。

背景技术

例如，已知如下技术，即，在制造锂二次电池时，在向铝箔等基体材料的一个主面供给电极液等涂敷液后，一边搬运该基体材料，一边对该基体材料上的涂敷液进行干燥。

专利文献1中公开了如下技术，即，一边以辊对辊形式搬运基体材料，一边利用干燥部对供给至该基体材料的主面的涂敷液进行干燥。在此，干燥部包括第一部分和第二部分，所述第一部分在搬运路径的上游侧向基体材料吹送热风，所述第二部分在搬运路径的下游侧向基体材料吹送干燥空气。因此，在被搬运的基体材料经过第一部分时，向基体材料吹送热风，从而在基体材料的主面上促进涂敷液中的溶剂的蒸发。此后，在被搬运的基体材料经过第二部分时，向基体材料吹送干燥空气，从而使基体材料的温度下降。而且，经过了干燥部的基体材料与周围的环境接触来进行冷却，被卷绕辊回收。

专利文献1：日本特开2012-202600号公报

通常，经过干燥部后的基体材料的温度比常温高。因此，在位于干燥部的搬运路径的下游侧的常温的辊和比该辊的温度高的基体材料接触时，有时因温度差而使基体材料收缩，从而在该基体材料产生褶皱。

发明内容

本发明是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供一种能够抑制干燥后的基体材料中产生的褶皱，以良好的状态处理基体材料的技术。

为了解决上述问题，第一方式的基体材料处理装置，具有：搬运部，将主面供给有涂敷液的基体材料，沿着搬运路径搬运，以及，干燥部，通过对被上述搬运部搬运的上述基体材料实施包括加热处理的处理，对供给至上述主面的上述涂敷液进行干燥；上述搬运部具有：第一搬运构件，沿着上述搬运路径设置于上述干燥部的上游侧，且用于搬运上述基体材料，以及，第二搬运构件，沿着上述搬运路径设置于上述干燥部的下游侧，且用于隔着气体层搬运上述基体材料。

第二方式的基体材料处理装置在第一方式的基体材料处理装置的基础上，上述搬运部还具有第三搬运构件，该第三搬运构件沿着上述搬运路径设置于上述干燥部的下游侧，且上述第三搬运构件与上述基体材料之间的接触面积大于上述第二搬运构件与上述基体材料之间的接触面积；上述第三搬运构件沿着上述搬运路径位于上述第二搬运构件的下游侧。

第三方式的基体材料处理装置在第一方式的基体材料处理装置的基础上，上述第二搬运构件包括能够以轴为中心旋转的辊，该轴与上述主面平行，且沿着与上述基体材料的搬运方向交叉的交叉方向延伸；还包括驱动部，该驱动部以使上述辊的周速大于被上述搬运部搬运的上述基体材料的搬运速度的方式，使上述辊旋转。

第四方式的基体材料处理装置在第一方式的基体材料处理装置的基础上，上述搬运部包括多个辊，该多个辊能够在上述干燥部的下游侧，分别以沿着上述交叉方向延伸的轴为中心进行旋转来搬运上述基体材料，且在上述搬运路径的一区间内排列设置；上述一区间的前后的上述搬运路径的延伸方向的角度差为，将上述多个辊相对于上述基体材料的夹角相加而得到的合计值。

第五方式的基体材料处理装置在第一方式的基体材料处理装置的基础上，上述第二搬运构件包括供气辊，上述供气辊能够以轴为中心进行旋转，该轴与上述主面平行，且沿着与上述基体材料的搬运方向交叉的交叉方向延伸，该供气辊具有设置有供气口的外周部和与该供气口连接的供气路径；还具有气体供给部，该气体供给部用于向上述供气路径供给气体。

第六方式的基体材料处理装置在第五方式的基体材料处理装置的基础上，上述气体的温度比上述基体材料中的被上述供气辊搬运的部分的温度低。