[发明专利]具有集成触摸敏感元件的显示器件及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201710160328.3 申请日: 2017-03-17
公开(公告)号: CN107203293B 公开(公告)日: 2021-11-19
发明(设计)人: 姜玲求;金羊熙;朴弘祚;李秀真;李钟焕;崔贤焕 申请(专利权)人: 三星显示有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 张波
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 具有 集成 触摸 敏感 元件 显示 器件 及其 制造 方法
【说明书】:

发明涉及具有集成触摸敏感元件的显示器件及其制造方法。显示器件包括包含第一电极、布置在第一电极上的第三保护层、布置在像素区域处的第三保护层上且接触薄膜晶体管的第二电极的显示元件。感应线被布置在第三保护层上且通过穿过第三保护层暴露第一电极的接触孔来接触第一电极。感应线包括布置在第三保护层上且通过接触孔接触第一电极的第一导电层和布置在第一导电层上的第二导电层。

技术领域

本公开的一方面一般地涉及显示器件。更具体地,本公开的方面涉及具有集成触摸敏感元件的显示器件及其制造。

背景技术

已经开发了包括集成到显示面板中的触摸屏的显示器件。触摸屏是多种信息输入器件中的一种。在操作中,用户通过在观看显示面板中产生的图像的同时按压或触摸该触摸屏来输入信息。

近期,具有集成触摸屏的小外形显示器件已经被开发用于诸如智能电话、平板电脑等的便携式终端的小型化,在这方面存在持续的努力。

发明内容

根据本公开的一方面,提供一种集成触摸屏显示器件,其中触摸屏的构成元件被布置在显示面板中。

根据本公开的另一方面,提供一种制造显示器件的方法。

根据一实施方式,一种显示器件可以包括:第一基板,包括包含多个像素区域的基底基板、布置在基底基板上的每个像素区域处的薄膜晶体管、布置在薄膜晶体管上的第一保护层、以及布置在第一保护层上的第二保护层;面对第一基板的第二基板;显示元件,包括布置在第二保护层上的第一电极、布置在第一电极上的第三保护层、布置在像素区域中的一个处的第三保护层上且通过第一接触孔接触对应的薄膜晶体管的第二电极、以及配置为通过由第一电极和第二电极产生的电场选择性传输和阻挡光的光学层,光学层被布置在第一基板和第二基板之间;以及感应线,其被布置在第三保护层上且通过第二接触孔接触第一电极,其中感应线包括布置在第三保护层上且通过第二接触孔接触第一电极的第一导电层和布置在第一导电层上的第二导电层。

第一导电层可以包括导电金属材料,第二导电层可以覆盖第一导电层,并且第二导电层可以包括与第二电极相同的材料。

第一电极可以具有下切,从而第一电极的边缘可以与第三保护层的边缘间隔开,并且第一电极的面积可以小于第三保护层的面积。

第二电极可以沿着第一接触孔的侧壁延伸,并且第一电极和第二电极之间的距离可以与第一电极的边缘和第三保护层的边缘之间的距离基本上相同。

第一电极、第二电极、第二保护层和第三保护层的表面可以共同形成腔体。

每个薄膜晶体管可以接触在一个方向上延伸的多个栅线中的一个以及在交叉栅线的方向上延伸的多个数据线中的一个,并且感应线可以重叠栅线和数据线中的一个。

一种制造显示器件的方法,可以包括:在第一基板上顺序形成透明导电层和第三保护层,第一基板包括接触栅线的栅电极、源电极以及接触数据线的漏电极;在第三保护层上形成光致抗蚀剂图案;通过使用光致抗蚀剂图案初次图案化第三保护层来去除第三保护层的对应于漏电极的一部分;通过利用湿蚀刻工艺图案化透明导电层来形成第一电极;通过二次图案化第三保护层暴露第一电极;形成接触第一电极且置于第三保护层上同时重叠数据线的第一导电层;以及通过在第三保护层上沉积并图案化透明导电材料来形成接触薄膜晶体管的第二电极和布置在第一导电层上的第二导电层,其中形成光致抗蚀剂图案包括在第三保护层上形成光致抗蚀剂材料膜以及使用半色调掩模曝光和显影,半色调掩模包括重叠漏电极的光传输区域、重叠数据线的半透光区域、以及光遮蔽区域。

初次图案化可以包括执行干蚀刻工艺,其暴露第三保护层的与半透光区域对应的区域。

图案化透明导电层还可以包括执行湿蚀刻工艺从而在透明导电层中形成下切,并且使得第一电极的边缘可以与第三保护层的边缘间隔开。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司,未经三星显示有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710160328.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top