[发明专利]具有集成触摸敏感元件的显示器件及其制造方法

权利要求书

1.一种显示器件，包括：

第一基板，包括包含多个像素区域的基底基板、布置在所述基底基板上的每个像素区域处的薄膜晶体管、布置在所述薄膜晶体管上的第一保护层、以及布置在所述第一保护层上的第二保护层；

面对所述第一基板的第二基板；

显示元件，包括：布置在所述第二保护层上的第一电极、布置在所述第一电极上的第三保护层、布置在所述像素区域中的一个处的所述第三保护层上且通过第一接触孔接触对应的薄膜晶体管的第二电极、以及配置为通过由所述第一电极和所述第二电极产生的电场选择性传输和阻挡光的光学层，所述光学层被布置在所述第一基板和所述第二基板之间；以及

感应线，布置在所述第三保护层上且通过第二接触孔接触所述第一电极，

其中所述感应线包括：

第一导电层，布置在所述第三保护层上且通过所述第二接触孔接触所述第一电极；以及

第二导电层，布置在所述第一导电层上，

其中所述第二导电层包括与所述第二电极相同的材料，并且所述光学层形成在所述第二电极和所述第二导电层上。

2.如权利要求1所述的显示器件，其中所述第一导电层包括导电金属材料。

3.如权利要求2所述的显示器件，其中所述第二导电层覆盖所述第一导电层。

4.如权利要求1所述的显示器件，其中所述第一电极具有下切，使得所述第一电极的边缘与所述第三保护层的边缘间隔开。

5.如权利要求4所述的显示器件，其中所述第一电极的面积小于所述第三保护层的面积。

6.如权利要求4所述的显示器件，其中所述第二电极沿着所述第一接触孔的侧壁延伸，以及

所述第一电极和所述第二电极之间的距离与所述第一电极的所述边缘和所述第三保护层的所述边缘之间的距离基本上相同。

7.如权利要求6所述的显示器件，其中所述第二电极、所述第一电极、所述第二保护层和所述第三保护层的表面共同形成腔体。

8.如权利要求1所述的显示器件，其中每个薄膜晶体管接触在一个方向上延伸的多个栅线中的一个和在交叉所述栅线的方向上延伸的多个数据线中的一个，以及

所述感应线重叠所述栅线和所述数据线中的一个线。

9.如权利要求8所述的显示器件，其中所述感应线重叠所述数据线中的一个。

10.如权利要求9所述的显示器件，其中所述第二接触孔被布置为重叠所述数据线中的一个。

11.如权利要求1所述的显示器件，其中所述光学层包括多个液晶分子。

12.一种制造显示器件的方法，所述方法包括：

在第一基板上顺序形成透明导电层和第三保护层，所述第一基板包括接触栅线的栅电极、源电极和接触数据线的漏电极；

在所述第三保护层上形成光致抗蚀剂图案；

通过使用所述光致抗蚀剂图案初次图案化所述第三保护层来去除所述第三保护层的对应于所述漏电极的一部分；

通过利用湿蚀刻工艺图案化所述透明导电层来形成第一电极；

通过二次图案化所述第三保护层暴露所述第一电极；

形成第一导电层，所述第一导电层接触所述第一电极且置于所述第三保护层上同时重叠所述数据线；

通过在所述第三保护层上沉积并图案化透明导电材料形成接触薄膜晶体管的第二电极和布置在所述第一导电层上的第二导电层；以及

在所述第二电极和所述第二导电层上形成光学层，所述光学层配置为通过由所述第一电极和所述第二电极产生的电场选择性传输和阻挡光，

其中所述形成光致抗蚀剂图案包括：

在所述第三保护层上形成光致抗蚀剂材料膜；以及

使用半色调掩模曝光和显影，所述半色调掩模包括重叠所述漏电极的光传输区域、重叠所述数据线的半透光区域、以及光遮蔽区域。