[发明专利]基于荧光染料ThT、RET基因的温度计的构建方法有效
| 申请号： | 201710159912.7 | 申请日： | 2017-03-17 |
| 公开（公告）号： | CN107044888B | 公开（公告）日： | 2019-03-01 |
| 发明（设计）人： | 王明茹;高如如;石硕 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | G01K11/16 | 分类号： | G01K11/16 |
| 代理公司： | 上海东亚专利商标代理有限公司 31208 | 代理人： | 董梅 |
| 地址： | 200092 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基于 荧光 染料 tht ret 基因 温度计 构建 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于荧光染料ThT、RET基因的温度计的构建方法，按下述步骤：
第一，荧光染料ThT和RET基因摩尔比为1：1，在Tris-HCl缓冲溶液中培养形成体系，通过改变Tris-HCl缓冲溶液的pH值，分别控制体系的pH值为7、8和9；
第二，在温度4-55℃范围内，每间隔3℃恒温培养30分钟；
第三，检测荧光，参数设置为狭缝10nm，电压500V，获得各温度梯度荧光强度参数。
2.根据权利要求1所述的基于荧光染料ThT、RET基因的温度计的构建方法，其特征在于：
在弱酸性环境下，利用RET基因会折叠成i-motif结构，RET基因在pH=7、8、9时随温度而发生构象变化的温度为Tm，当RET基因为发卡结构时，荧光染料ThT与RET基因结合，处于发卡结构的空穴区内，引起荧光染料ThT荧光强度的变化，对温度有明显响应；
当温度升高超过其构象变化的温度时，推测发卡结构解开变成单链结构，此时ThT与RET分离，ThT荧光强度下降。
3.利用权利要求1或2所述的构建方法设计一种基于荧光染料ThT、RET基因的温度计。
4.根据权利要求3所述的温度计，其特征在于：将控制体系pH值调至7，在25-40℃，每一度恒温培养30分钟。
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