[发明专利]在光刻中产生至少一个微粒屏蔽体的设备及光刻系统

权利要求书

1.一种在光刻中产生至少一个微粒屏蔽体的设备，其特征在于，包括：

第一部件及第二部件，其中所述第一部件及所述第二部件能够用于形成至少一个微粒屏蔽体中的第一微粒屏蔽体，以阻挡微粒接触物体的接近表面，其中所述第一部件包括第一气体喷射器，以及所述第二部件包括与所述第一气体喷射器对应的第一气体抽出器，其中所述第一气体喷射器被配置成吹出气体，藉此形成所述第一微粒屏蔽体，且其中所述第一气体抽出器被配置成与所述第一气体喷射器一起工作以为所述第一微粒屏蔽体提供气体压力梯度，其中所述第一部件及所述第二部件中的至少一者能够沿着与所述物体的所述接近表面正交的方向移动，所述第一微粒屏蔽体平行于所述物体的所述接近表面并与所述物体的所述接近表面在实体上隔开。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一气体喷射器与所述第一气体抽出器在与所述物体的所述接近表面的法线平行的方向上对准于同一水平。

3.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一气体喷射器在与所述物体的所述接近表面的法线平行的方向上位于所述第一气体抽出器之上或之下。

4.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一气体抽出器包括真空。

5.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一气体抽出器被配置成抽吸由所述第一气体喷射器输出的微粒。

6.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一气体喷射器与所述第一气体抽出器被配置成使得所述第一微粒屏蔽体循环经过所述第一气体喷射器及所述第一气体抽出器。

7.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一微粒屏蔽体的面积大于所述接近表面的面积。

8.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一微粒屏蔽体与所述物体的所述接近表面隔开介于0.5毫米与30厘米范围的间距。

9.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一微粒屏蔽体的厚度介于1毫米至90毫米范围内。

10.根据权利要求1所述的设备，其中所述第一部件包括第二气体喷射器，以及所述第二部件包括与所述第二气体喷射器对应的第二气体抽出器，其中所述第二气体喷射器与所述第二气体抽出器能够用于形成所述至少一个微粒屏蔽体中的第二微粒屏蔽体，以阻挡微粒接触所述物体的所述接近表面。

11.根据权利要求10所述的设备，其中所述第一气体喷射器与所述第二气体喷射器沿与所述物体的所述接近表面平行的方向并排地定位。

12.根据权利要求10所述的设备，其中所述第一气体喷射器与所述第二气体喷射器沿与所述物体的所述接近表面的法线平行的方向彼此叠放地定位。

13.一种在光刻中产生至少一个微粒屏蔽体的设备，包括：

第一部件及第二部件，其中所述第一部件及所述第二部件能够用于形成至少一个微粒屏蔽体中的第一微粒屏蔽体，以阻挡微粒接触物体的接近表面，其中所述第一微粒屏蔽体包括能量梯度力或速度梯度力；以及

第三部件及第四部件，其中所述第三部件及所述第四部件能够用于形成所述至少一个微粒屏蔽体中的第二微粒屏蔽体，以阻挡微粒接触所述物体的所述接近表面，其中所述第二微粒屏蔽体包括由所述第三部件及所述第四部件的温差产生的热梯度驱动力，

其中所述第一部件包括第一气体喷射器，以及所述第二部件包括与所述第一气体喷射器对应的第一气体抽出器，其中所述第一气体喷射器被配置成吹出气体，藉此形成所述第一微粒屏蔽体，且其中所述第一气体抽出器被配置成与所述第一气体喷射器合作以为所述第一微粒屏蔽体提供气体压力梯度。

14.根据权利要求13所述的设备，其中所述第二部件平行于所述第一部件，所述第四部件平行于所述第三部件，且所述第三部件及所述第四部件横切于所述第一部件及所述第二部件。