[发明专利]光强均匀性自动调节装置及调整方法有效

专利信息
申请号: 201710154369.1 申请日: 2017-03-15
公开(公告)号: CN108628103B 公开(公告)日: 2021-05-07
发明(设计)人: 杨鹏;陈昌利;何雄;张轲;姚宏忠 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 均匀 自动 调节 装置 调整 方法
【权利要求书】:

1.一种光强均匀性自动调节装置,包括:

光强实时检测系统,光强分析系统以及光强自动调整系统;所述光强实时监测系统检测晶片工作台上的光强,并将检测结果传递至所述光强分析系统;所述光强分析系统结合一标准数据,产生调整信号并传递至所述光强自动调整系统;所述光强自动调整系统包括光学调整模块,所述光学调整模块包括第一透镜和第二透镜,所述第一透镜为凸透镜,所述第二透镜为凹透镜,所述光强自动调整系统依据所述调整信号调整所述第二透镜与所述第一透镜之间的相对位置,以减小光源发出的光照射到所述晶片工作台后中心区域和四周区域的光强差异;

所述光强自动调整系统还包括电机、传递模块和位置调整模块,所述电机在所述调整信号的驱动下带动传递模块将动作传递至位置调整模块,使得位置调整模块进行位置调整,进而所述光学调整模块改变光源发出的光的光强;

其中,所述传递模块包括电机输出轴、联轴器及丝杆驱动轴,所述位置调整模块包括丝杆和螺母,所述螺母套设于所述丝杆上,所述电机输出轴将电机的动作传递至联轴器,所述联轴器带动所述丝杆驱动轴使得丝杆旋转,从而改变螺母的位置;所述第一透镜位置固定,所述第二透镜设置在所述螺母上,随着所述螺母位置的改变而改变第一透镜和第二透镜的相对位置。

2.如权利要求1所述的光强均匀性自动调节装置,其特征在于,所述光强实时检测系统设置在所述晶片工作台中,所述光强实时检测系统的上表面与所述晶片工作台的上表面齐平。

3.如权利要求2所述的光强均匀性自动调节装置,其特征在于,所述光强实时检测系统包括传感器,所述传感器活动设置在所述晶片工作台中,自所述晶片工作台一角逐行完成对所述晶片工作台的扫描。

4.如权利要求3所述的光强均匀性自动调节装置,其特征在于,在所述传感器扫描过程中,每经过一个曝光单元所在位置,则记录下该曝光单元所在位置的光强信息作为检测结果并传递至所述光强分析系统。

5.如权利要求4所述的光强均匀性自动调节装置,其特征在于,所述光强分析系统包括单片机和标准数据输入模块,所述单片机判断所述检测结果是否囊括所有曝光单元所在位置的光强信息,判断所述标准数据输入模块输入的标准数据是否与所有曝光单元的数量相匹配,还对所述检测结果和标准数据进行比较,产生调整信号。

6.如权利要求5所述的光强均匀性自动调节装置,其特征在于,所述光强分析系统还包括:模数转换器,所述传感器传递的检测结果为电信号,所述模数转换器将所述电信号转换为数字信号传递至所述单片机。

7.如权利要求5所述的光强均匀性自动调节装置,其特征在于,所述光强分析系统还包括驱动器,所述驱动器将所述调整信号传递至所述光强自动调整系统。

8.如权利要求7所述的光强均匀性自动调节装置,其特征在于,所述光学调整模块还包括一壳体,所述壳体相对的两个面分别设置有输入平面镜和输出平面镜,所述第一透镜和第二透镜设置在所述输入平面镜和输出平面镜之间。

9.如权利要求8所述的光强均匀性自动调节装置,其特征在于,所述壳体具有一开口,所述第二透镜与所述螺母在所述开口处相连接。

10.一种如权利要求1至9任一项所述的光强均匀性自动调节装置的调整方法,包括:

开启光源;

光强实时监测系统检测晶片工作台上的光强,并将检测结果传递至光强分析系统;

所述光强分析系统结合一标准数据,产生调整信号并传递至光强自动调整系统,所述光强自动调整系统包括光学调整模块,所述光学调整模块包括第一透镜和第二透镜,所述第一透镜为凸透镜,所述第二透镜为凹透镜;

所述光强自动调整系统依据所述调整信号调整所述第二透镜与所述第一透镜之间的相对位置,以减小光源发出的光照射到所述晶片工作台后中心区域和四周区域的光强差异。

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