[发明专利]待测样品处理方法、待测样品处理芯片及待测样品处理装置

权利要求书

1.待测样品处理方法，其为用于使用有贮留部及液滴形成流路的待测样品处理芯片处理待测样品中的对象成分的待测样品处理方法，其中

将上述对象成分和用于在液滴中以每1分子或每1个包含上述对象成分的指定量的稀释液的混合液贮留到贮留部中，

对上述贮留部内的上述混合液进行加热，使上述贮留部内发生热对流而混合上述对象成分和上述稀释液，

在上述液滴形成流路中，在分散介质中形成含被稀释的上述对象成分和与上述对象成分反应的试剂的液滴。

2.权利要求1所述的待测样品处理方法，其中在使在平板状的上述待测样品处理芯片的主平面的长边方向或短边方向的任一方与重力方向一致的状态下，对上述贮留部内的上述混合液进行加热而使上述贮留部内发生热对流。

3.权利要求2所述的待测样品处理方法，其中上述贮留部之中，通过对重力方向的下侧部分的上述混合液进行加热，形成用于使上述贮留部内发生热对流的温度分布。

4.权利要求2所述的待测样品处理方法，其中

在使在平板状的上述待测样品处理芯片的主平面的长边方向或短边方向的任一方与重力方向一致的状态下，使沿重力方向的方向作为上述贮留部的纵方向，沿上述长边方向或上述短边方向的任一方之外的另一方的方向作为上述贮留部的横方向时，

将上述混合液在上述贮留部中所占的纵方向的长度和上述混合液在上述贮留部中所占的横方向的长度的长宽比成为0.1以上10以下的指定量的混合液贮留到上述贮留部。

5.权利要求1所述的待测样品处理方法，其中将上述混合液加热到50℃以上85℃以下的温度而使上述贮留部内发生热对流。

6.权利要求1所述的待测样品处理方法，其中通过在不足10分钟的指时刻间期间、对上述混合液进行加热，使上述对象成分和上述稀释液完成混合。

7.待测样品处理芯片，其为设置于待测样品处理装置、用于处理由上述待测样品处理装置供给的待测样品中的对象成分的待测样品处理芯片，其具备：

稀释流路，其具有用于贮留上述对象成分和用于在液滴中以每1分子或每1个包含上述对象成分的指定量的稀释液的混合液的贮留部，用于通过由配置于上述待测样品处理装置的加热部发生的热使上述贮留部内发生热对流，混合上述对象成分和上述稀释液，及

液滴形成流路，其用于在分散介质中形成含有在上述稀释流路中被稀释的上述对象成分和与上述对象成分反应的试剂的液滴。

8.权利要求7所述的待测样品处理芯片，其具备：

多个流体模块，其上各自形成上述稀释流路及上述液滴形成流路，

基板，其配置有上述多个流体模块，及

连接流路，其用于连接配置于上述基板的各上述流体模块，使被稀释的上述对象成分自上述稀释流路移动到上述液滴形成流路。

9.权利要求8所述的待测样品处理芯片，其中上述基板的厚度是0.1mm以上5mm以下。

10.权利要求7所述的待测样品处理芯片，其具备串联连接的多个上述稀释流路，

在前段的上述稀释流路中被稀释的上述对象成分和上述稀释液的混合液之中，将指定量的混合液供给于后段的上述稀释流路。

11.权利要求10所述的待测样品处理芯片，其中上述多个稀释流路，作为整体，以乘以各种上述稀释流路的稀释倍率而得到的稀释倍率稀释上述对象成分。

12.权利要求10所述的待测样品处理芯片，其中上述多个稀释流路，作为整体，以10³倍以上10⁷倍以下的稀释倍率稀释上述对象成分。

13.权利要求7所述的待测样品处理芯片，其中上述稀释流路以25倍以上1500倍以下的稀释倍率稀释上述对象成分。

14.权利要求8所述的待测样品处理芯片，其中上述稀释流路含用于向上述贮留部供给液体的第1流路，所述待测样品处理芯片以沿上述基板的主表面延伸的方式形成，

上述贮留部具有在沿上述主表面的方向，上述贮留部的流路宽度相对于上述第1流路的流路宽度扩大的形状。

15.权利要求14所述的待测样品处理芯片，其中上述贮留部有沿上述主表面的长边方向的上述贮留部的第1长度和沿短边方向的第2长度的长宽比成为0.1以上10以下的形状。