[发明专利]用于栅极介电完整性测试的结构

权利要求书

1.一种用于栅极介电完整性测试的结构，其特征在于，包括：

衬底，所述衬底内设有拾取区；

晶体管，包括位于所述衬底上的栅极介电层，位于所述栅极介电层上的栅极，以及位于所述衬底内的源/漏极；

位于所述栅极上方的第一金属线、第二金属线和第三金属线，所述第一金属线、所述第二金属线和所述第三金属线位于同一层并相互绝缘地间隔设置；

位于所述第一金属线、所述第二金属线和所述第三金属线上方的栅极焊盘、源/漏极焊盘以及衬底焊盘，所述栅极通过所述第一金属线连接至所述栅极焊盘，所述源/漏极通过所述第二金属线连接至所述源/漏极焊盘，所述衬底通过所述第三金属线连接至所述衬底焊盘。

2.如权利要求1所述的结构，其特征在于，所述拾取区的数量为若干个并相间隔地围成至少一个包围所述晶体管的环形区域，相邻的所述拾取区之间电连接。

3.如权利要求2所述的结构，其特征在于，所述环形区域为矩形区域，围成所述矩形区域的所述拾取区中，部分所述拾取区沿第一方向间隔地排列，另一部分所述拾取区沿第二方向间隔地排列，所述第二方向垂直于第一方向。

4.如权利要求3所述的结构，其特征在于，所述拾取区排列成日字形，所述矩形区域的数量为两个，每个所述矩形区域设置有所述晶体管。

5.如权利要求3所述的结构，其特征在于，所述栅极的数量为若干个，并沿所述第一方向间隔排列，所述第一金属线与所述栅极的端部电连接。

6.如权利要求3所述的结构，其特征在于，还包括伪栅极，所述伪栅极位于沿所述第二方向间隔排列的拾取区上。

7.如权利要求3所述的结构，其特征在于，所述第三金属线的数量为若干个，在所述第一方向上相邻的两个所述拾取区通过所述第三金属线电连接；

所述结构还包括：位于所述衬底上的若干第四金属线，所述第四金属线位于所述第一金属线、所述第二金属线、所述第三金属线的下层，在所述第二方向上相邻的两个所述拾取区通过所述第四金属线电连接。

8.如权利要求7所述的结构，其特征在于，所述第一金属线包括沿所述第一方向延伸的第一金属段和沿所述第二方向延伸的第二金属段，所述第一金属段的一端位于所述环形区域的正上方，另一端与所述环形区域之外的所述第二金属段相连。

9.如权利要求8所述的结构，其特征在于，所述第二金属线包括沿所述第一方向延伸的第三金属段和沿所述第二方向延伸的第四金属段，所述第三金属段的一端位于所述环形区域的正上方，另一端与所述环形区域之外的所述第四金属段相连；

所述第三金属段与第一金属段平行间隔设置，所述第四金属段与第二金属段平行间隔设置。

10.如权利要求7至9任一项所述的结构，其特征在于，所述第一金属线、所述第二金属线、所述第三金属线均为M1层金属线，所述第四金属线为M0层金属线。