[发明专利]基板处理装置、基板处理方法以及存储介质

权利要求书

1.一种基板处理装置，进行对基板的表面供给漂洗液之后供给干燥液的处理，该基板处理装置的特征在于，具备：

基板保持部，其用于保持基板；

旋转机构，其使由所述基板保持部保持着的基板旋转；

干燥液供给喷嘴，其对利用所述漂洗液进行处理后的旋转的基板的表面供给用于使基板干燥的干燥液；

移动机构，其使由所述基板保持部保持着的基板与干燥液供给喷嘴相对地移动；

流量控制机构，其对从所述干燥液供给喷嘴供给的干燥液的供给流量进行控制；以及

控制部，在使着液点以从基板的中心部朝向周缘部的朝向移动时，所述控制部进行控制，以使得以所述着液点为基点形成的干燥液的流线中的距离L为预先设定的上限距离M以下，其中，该着液点是从所述干燥液供给喷嘴供给的干燥液到达基板上的位置，该距离L是从所述着液点的中心至该干燥液的流线的靠基板的旋转中心侧的端部的距离，

其中，所述控制部通过使所述干燥液的供给流量变化，来将所述距离L控制为上限距离M以下，所述上限距离M是以下值：在以形成该上限距离以下的流线的方式进行干燥液的供给时，使在形成于基板的表面的图案中形成的缺陷的相对于基准值的增加个数在每1cm²中为5个以下。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述控制部基于干燥液从所述着液点所描绘的轨道圆的单位区间向基板的中心部侧的流入量来控制所述距离L。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

所述控制部基于下述数式来确定干燥液向基板的中心部侧的流入量，

干燥液的流入量＝{(Q/2)×t}/C，其中，t＝D/v，

在此，D为干燥液供给喷嘴的开口直径[mm]，Q为干燥液的供给流量[ml/s]，v为着液点的移动速度[mm/s]，C为着液点所描绘的轨道圆的周长[mm]。

4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述控制部进行以下控制：改变所述旋转机构使基板旋转的单位时间的转速，以使得作用于所述着液点的干燥液的离心加速度沿该着液点的移动方向固定。

5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述干燥液供给喷嘴被以使干燥液的喷出方向倾斜的状态配置，以使得所述着液点位于从基板的旋转中心来看比干燥液的喷出位置更靠周缘部侧的位置。

6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其特征在于，

所述干燥液供给喷嘴被配置为，在俯视基板时，与所述着液点所描绘的轨道圆相切且沿着基板旋转的朝向延伸的切线方向同干燥液的喷出方向之间所成的角度θ为0°θ90°的范围内的角度。

7.一种基板处理装置，进行对基板的表面供给漂洗液之后供给干燥液的处理，该基板处理装置的特征在于，具备：

基板保持部，其用于保持基板；

旋转机构，其使由所述基板保持部保持着的基板旋转；

干燥液供给喷嘴，其对利用所述漂洗液进行处理后的旋转的基板的表面供给用于使基板干燥的干燥液；

移动机构，其使由所述基板保持部保持着的基板与干燥液供给喷嘴相对地移动；

流量控制机构，其对从所述干燥液供给喷嘴供给的干燥液的供给流量进行控制；以及

控制部，在使着液点以从基板的中心部朝向周缘部的朝向移动时，所述控制部进行控制，以使得以所述着液点为基点形成的干燥液的流线中的距离L为预先设定的上限距离M以下，其中，该着液点是从所述干燥液供给喷嘴供给的干燥液到达基板上的位置，该距离L是从所述着液点的中心至该干燥液的流线的靠基板的旋转中心侧的端部的距离，

其中，所述控制部通过使所述干燥液供给喷嘴的移动速度变化，来将所述距离L控制为上限距离M以下，所述上限距离M是以下值：在以形成该上限距离以下的流线的方式进行干燥液的供给时，使在形成于基板的表面的图案中形成的缺陷的相对于基准值的增加个数在每1cm²中为5个以下。