[发明专利]具有埋入式噪声屏蔽墙的封装基板在审
申请号: | 201710127195.X | 申请日: | 2017-03-06 |
公开(公告)号: | CN107424974A | 公开(公告)日: | 2017-12-01 |
发明(设计)人: | 胡迪群 | 申请(专利权)人: | 胡迪群 |
主分类号: | H01L23/498 | 分类号: | H01L23/498;H01L23/552 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司44102 | 代理人: | 隆翔鹰 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 埋入 噪声 屏蔽 封装 | ||
1.一种具有埋入式噪声屏蔽墙的封装基板,其特征是,包括第一信号线、左边屏蔽墙和右边屏蔽墙,第一信号线埋设于第一介电层中;左边屏蔽墙埋设于所述第一介电层中,并且配置在所述第一信号线的左边;右边屏蔽墙埋设于所述第一介电层中,并且配置在所述第一信号线的右边。
2.根据权利要求1所述具有埋入式噪声屏蔽墙的封装基板,其特征是,所述左边屏蔽墙具有的底表面,不高于所述第一信号线的底表面;所述右边屏蔽墙具有的底表面,不高于所述第一信号线的底表面。
3.根据权利要求1所述具有埋入式噪声屏蔽墙的封装基板,其特征是,还包括重新分布层和芯片,重新分布层配置在所述第一介电层的底侧;芯片配置在所述封装基板的顶面,所述芯片经由所述多个纵向金属接线,电性耦合到所述重新分布层的电路。
4.根据权利要求1所述具有埋入式噪声屏蔽墙的封装基板,其特征是,还包括底侧屏蔽墙,底侧屏蔽墙配置在所述左边屏蔽墙和所述右边屏蔽墙的底侧上。
5.根据权利要求1所述具有埋入式噪声屏蔽墙的封装基板,其特征是,还包括第二信号线,第二信号线埋设于所述第一介电层中,与所述第一信号线相邻并排配置;所述左边屏蔽墙配置在所述第一信号线的左边;右边屏蔽墙配置在第二信号线的右边。
6.根据权利要求5所述具有埋入式噪声屏蔽墙的封装基板,其特征是,还包括中间屏蔽墙,中间屏蔽墙配置在所述第一信号线和所述第二信号线之间。
7.根据权利要求1所述具有埋入式噪声屏蔽墙的封装基板,其特征是,所述左边屏蔽墙具有延伸区域向上延伸,越过所述第一信号线的顶表面;右边屏蔽墙具有延伸区域向上延伸,越过第一信号线的顶表面。
8.根据权利要求7所述具有埋入式噪声屏蔽墙的封装基板,其特征是,还包括顶侧屏蔽墙,顶侧屏蔽墙配置在所述左边屏蔽墙和所述右边屏蔽墙的顶表面。
9.根据权利要求5所述具有埋入式噪声屏蔽墙的封装基板,其特征是,还包括第二介电层,所述左边屏蔽墙具有延伸区域向上延伸,越过所述第一信号线的顶表面,埋设于所述第二介电层中;所述右边屏蔽墙具有延伸区域向上延伸,越过所述第一信号线的顶表面,埋设于所述第二介电层中。
10.根据权利要求9所述具有埋入式噪声屏蔽墙的封装基板,其特征是,还包括顶侧屏蔽墙,顶侧屏蔽墙配置在所述左边屏蔽墙和所述右边屏蔽墙的顶侧;所述顶侧屏蔽墙埋设于所述第二介电层中,且具有表面与所述第二介电层顶表面为共平面。
11.根据权利要求6所述具有埋入式噪声屏蔽墙的封装基板,其特征是,所述左边屏蔽墙向上延伸,越过所述第一信号线的顶表面;所述中间屏蔽墙向上延伸,越过所述第一信号线的顶表面;右边屏蔽墙向上延伸,越过所述第一信号线的顶表面。
12.根据权利要求11所述具有埋入式噪声屏蔽墙的封装基板,其特征是,还包括顶侧屏蔽墙,顶侧屏蔽墙配置在所述左边屏蔽墙、中间屏蔽墙以及右边屏蔽墙的顶侧。
13.根据权利要求4所述具有埋入式噪声屏蔽墙的封装基板,其特征是,所述底侧屏蔽墙、左边屏蔽墙和右边屏蔽墙,埋设于所述第一介电层中。
14.根据权利要求13所述具有埋入式噪声屏蔽墙的封装基板,其特征是,所述左边屏蔽墙和右边屏蔽墙具有顶表面,前述顶表面与所述第一介电层顶表面共平面。
15.根据权利要求7所述具有埋入式噪声屏蔽墙的封装基板,其特征是,还包含第二介电层,所述第二介电层设置于所述第一介电层顶侧;所述延伸区域埋设于所述第二介电层中。
16.根据权利要求8所述具有埋入式噪声屏蔽墙的封装基板,其特征是,所述顶侧屏蔽墙埋设于所述第二介电层中;所述顶侧屏蔽墙具有顶表面,前述顶表面与所述第二介电层顶表面为共平面。
17.根据权利要求3所述具有埋入式噪声屏蔽墙的封装基板,其特征是,所述纵向金属接线底部,穿过所述第一介电层底部。
18.根据权利要求17所述具有埋入式噪声屏蔽墙的封装基板,其特征是,所述纵向金属接线具有顶表面,前述顶表面与所述第一介电层顶表面共平面。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于胡迪群,未经胡迪群许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710127195.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种物理实验用加热支架
- 下一篇:半导体装置及其制造方法