[发明专利]一种有机发光二极管显示面板、其制作方法及显示装置有效
申请号: | 201710120718.8 | 申请日: | 2017-03-02 |
公开(公告)号: | CN106876434B | 公开(公告)日: | 2019-08-30 |
发明(设计)人: | 于泉鹏;李喜烈;刘聪慧;蔡雨 | 申请(专利权)人: | 上海天马微电子有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L23/31 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 201201 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 有机 发光二极管 显示 面板 制作方法 显示装置 | ||
1.一种有机发光二极管显示面板,包括:衬底基板,设置于所述衬底基板显示区上的多个显示器件,设置于所述衬底基板外围区且包围所述多个显示器件的至少一个挡墙结构,至少覆盖所述多个显示器件的封装膜,设置于所述封装膜上的阻隔膜,以及填充于所述封装膜与所述阻隔膜之间的粘合层;
其中,所述阻隔膜与至少一个所述挡墙结构相对区域的厚度大于所述阻隔膜与所述多个显示器件相对区域的厚度。
2.如权利要求1所述的有机发光二极管显示面板,其特征在于,所述阻隔膜与至少一个所述挡墙结构相对区域具有朝向所述挡墙结构的凸起结构;所述凸起结构在所述衬底基板上的正投影覆盖所述挡墙结构在所述衬底基板上的正投影。
3.如权利要求1所述的有机发光二极管显示面板,其特征在于,在所述外围区,沿所述显示区指向所述外围区的方向,至少部分所述阻隔膜的面向所述衬底基板的表面具有厚度逐渐增加的坡面结构。
4.如权利要求3所述的有机发光二极管显示面板,其特征在于,所述坡面结构延伸至所述阻隔膜的最外侧边缘。
5.如权利要求1-4任一项所述的有机发光二极管显示面板,其特征在于,所述阻隔膜包括:阻隔基底,以及设置于所述阻隔基底与所述粘合层之间的阻隔层;其中,
所述阻隔基底背离所述阻隔层一侧的表面为一平面;
所述阻隔基底的厚度一致;或,所述阻隔层的厚度一致。
6.如权利要求5所述的有机发光二极管显示面板,其特征在于,在所述外围区,沿所述显示区指向所述外围区的方向,至少部分所述阻隔基底的厚度逐渐增加,所述阻隔层的厚度一致。
7.如权利要求5所述的有机发光二极管显示面板,其特征在于,所述阻隔层在与至少一个所述挡墙结构相对的区域设置所述凸起结构,所述阻隔基底的厚度一致。
8.如权利要求1所述的有机发光二极管显示面板,其特征在于,所述衬底基板为柔性基板。
9.一种显示装置,其特征在于,包括:如权利要求1-8任一项所述的有机发光二极管显示面板。
10.一种有机发光二极管显示面板的制作方法,其特征在于,包括:
在衬底基板上形成多个显示器件和包围所述多个显示器件的至少一个挡墙结构;
在所述衬底基板上形成至少覆盖所述多个显示器件的封装膜;
形成与至少一个所述挡墙结构相对区域的厚度大于与所述多个显示器件相对区域的厚度的阻隔膜;
在所述阻隔膜上形成粘合层;
将所述阻隔膜具有所述粘合层的一侧表面贴合在所述封装膜上。
11.如权利要求10所述的制作方法,其特征在于,所述阻隔膜包括:阻隔基底,以及设置于所述阻隔基底与所述粘合层之间的阻隔层;
其中,所述形成与至少一个所述挡墙结构相对区域的厚度大于与所述多个显示器件相对区域的厚度的阻隔膜,具体包括:
在所述外围区,沿所述显示区指向所述外围区的方向,形成至少部分面向所述衬底基板的表面具有厚度逐渐增加的坡面结构的阻隔基底;
在所述阻隔基底具有所述坡面结构的表面形成厚度一致的阻隔层。
12.如权利要求10所述的制作方法,其特征在于,所述阻隔膜包括:阻隔基底,以及设置于所述阻隔基底与所述粘合层之间的阻隔层;
其中,所述形成在与所述挡墙结构相对区域的厚度大于与所述多个显示器件相对区域的厚度的阻隔膜,具体包括:
在所述阻隔基底上形成在与至少一个所述挡墙结构相对区域具有凸起结构的阻隔层。
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
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