[发明专利]温度监控晶圆以及腔室温度的监控方法

说明书

本发明提供了一种温度监控晶圆以及腔室温度的监控方法，所述温度监控晶圆用于对腔室内的温度进行监控检测，其包括：一基底以及形成于所述基底上的一荧光涂层，所述荧光涂层在不同的温度条件下具有不同的荧光特性。即，本发明利用荧光材质的荧光特性形成温度监控晶圆，并通过所述温度监控晶圆可对腔室内的温度进行监控检测，并可根据检查结果进一步推断出加热元件是否损坏，实现对加热元件的监控目的。

技术领域

本发明涉及半导体制造技术领域，特别涉及一种温度监控晶圆以及腔室温度的监控方法。

背景技术

在半导体的制造领域中，晶圆的加工过程通常需在一工艺腔室中进行，并且，所述工艺腔室通常需维持在一定的温度范围内。当腔室内的温度出现异常时，将会直接对晶圆造成影响。

例如，在半导体的成膜工艺中，在执行薄膜沉积之前通常需先将晶圆置于脱气腔室中干燥，以去除晶圆表面的水汽，进而可避免在薄膜沉积的过程中由于水汽逸出而对所形成的薄膜造成影响。当晶圆在所述脱气腔室中的温度过高时，极易导致晶圆发生破裂。因此，对腔室内的温度进行监控检测至关重要。

发明内容

本发明的目的在于提供一种温度监控晶圆以及通过所述温度监控检测晶圆对腔室内的温度进行监控检测的方法，可在不影响设备利用率的情况下，在较短的时间内对腔室内的温度进行监控的目的。

为此，本发明提供了一种温度监控晶圆，所述温度监控晶圆用于对腔室内的温度进行监控检测，所述温度监控晶圆包括：一基底以及形成于所述基底上的一荧光涂层，所述荧光涂层在不同的温度条件下具有不同的荧光特性。

可选的，所述腔室包括一加热元件，通过所述加热元件使腔室内的温度维持在预定的范围内。

可选的，所述荧光涂层中的荧光材料为有机荧光材料。

可选的，所述荧光涂层为磷光体膜。

可选的，所述腔室的预定温度小于等于300℃。

可选的，所述荧光涂层的材质包括蒽。

可选的，所述荧光涂层的材质还包括正硅酸乙酯。

可选的，所述温度监控晶圆还包括一硅胶涂层，所述硅胶涂层覆盖所述荧光涂层。

本发明的又一目的在于，提供一种腔室温度的监控方法，其采用如上所述的温度监控晶圆进行监控检测，包括：

提供一温度监控晶圆，所述温度监控晶圆为形成有荧光涂层的晶圆，所述荧光涂层在不同的温度条件下具有不同的荧光特性；

将所述温度监控晶圆放置于腔室中；

观察所述温度监控晶圆中荧光涂层所产生的光；并判断是否为预定颜色或强度的光；若所述荧光涂层可产生预定颜色或强度的光时，则判定所述腔室内的温度无异常；若所述荧光涂层没有产生预定颜色或强度的光时，则判定所述腔室内的温度存在异常。

可选的，所述腔室包括一加热元件，通过所述加热元件使腔室内的温度维持在预定的范围内。

可选的，所述加热元件包括多个加热灯。

可选的，所述多个加热灯并联构成所述加热元件。

可选的，所述腔室为脱气腔室。

可选的，所述腔室具有一透明的观察窗口。

在本发明提供的温度监控晶圆中，其具有一荧光涂层，所述荧光涂层在不同的温度条件下会表现出不同的荧光特性。即，本发明利用荧光材质的荧光特性形成温度监控晶圆，并通过采用所述温度监控晶圆监控腔室中的温度变化，进而可在较短的时间完成对腔室温度进行监控的目的。其中，所述荧光涂层中的荧光材料可采用有机荧光材料，相比于无机荧光材料而言，有机荧光材料不会对腔室造成污染。