[发明专利]一种图形失真的检测方法及结构

说明书

本发明实施例公开了一种图形失真的检测方法及结构。该方案中，对第一感光材料通过曝光显影形成所需的待检测图形的同时，在待检测图形的预设检测区域形成具有两个不同高度的水平面的检测台阶，然后通过相同的曝光机参数对第二感光材料在检测区域内形成用于检测曝光失焦的检测图形，如果检测图形在检测台阶的两个水平面上的预设尺寸参数是一致的，说明所采用的曝光机参数曝光时，第二感光材料在焦深范围内，由于第一感光材料与第二感光材料所采用的曝光机参数相同，那么，第一感光材料也在焦深范围内，就没有曝光失焦，形成的待检测图形就不会因曝光失焦而失真，反之，则因曝光失焦而失真。这样，可以及时发现解决曝光失焦及其导致的图形失真问题。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种图形失真的检测方法及结构。

背景技术

光刻工艺是显示器制备过程中的一步关键工艺，它是通过涂胶、曝光、显影将掩膜版上的图形转移到基板上的。其中，对于曝光工艺来说，曝光的焦深是一个重要因素，在生产过程中，如果感光材料未在焦深范围内，即曝光失焦，图形就会变形失真。但是在现有技术中，由于其它工艺也会导致图形失真，也就无法确定图形失真是否因曝光失焦导致的，不能及时发现解决曝光失焦问题。

发明内容

本发明实施例的目的是提供一种图形失真的检测方法及结构，以实现及时发现解决曝光失焦及其导致的图形失真问题。

本发明实施例的目的是通过以下技术方案实现的：

一种图形失真的检测方法，包括：

在基板上涂覆第一感光材料；

依照预设曝光机参数，对所述第一感光材料曝光，显影形成待检测图形，同时在所述待检测图形的至少一个预设检测区域内形成检测台阶；其中，所述检测台阶具有高度不同的第一水平面和第二水平面；所述第一水平面和所述第二水平面平行于所述基板所在平面；

在所述基板上涂覆第二感光材料；

依照所述预设曝光机参数，对所述第二感光材料曝光，显影形成位于所述检测区域内的用于检测曝光失焦的检测图形；

检测所述检测图形中位于所述检测台阶的第一水平面的部分与位于所述检测台阶的第二水平面的部分的预设尺寸参数是否一致；如果一致，则确定所述待检测图形在所述检测区域未因曝光失焦失真；如果不一致，则确定所述待检测图形在所述检测区域因曝光失焦失真。

较佳地，所述第二感光材料的厚度小于所述第一感光材料的厚度。

较佳地，形成位于所述检测区域内的用于检测曝光失焦的检测图形，包括：

在所述检测区域内形成至少一条条状的检测图形；其中，所述条状的检测图形在所述基板上的正投影与所述检测台阶在所述基板上的正投影相交。

较佳地，在所述待检测图形的至少一个预设检测区域内形成检测台阶，包括：

在所述待检测图形的至少一个所述检测区域内形成凸起，以形成所述检测台阶。

较佳地，检测所述检测图形中位于所述检测台阶的第一水平面的部分与位于所述检测台阶的第二水平面的部分的预设尺寸参数是否一致，包括：

检测所述条状图形中位于所述凸起的部分与位于所述凸起一侧的部分的线宽是否一致；

或者，检测各所述条状图形位于所述凸起的部分与位于所述凸起一侧的部分的间隔是否一致。

较佳地，在所述待检测图形的至少一个预设检测区域内形成检测台阶，包括：

在所述待检测图形的至少一个所述检测区域内形成凹槽，以形成所述检测台阶。