[发明专利]一种适用于工业化生产的高纯度异硫氰酸酯类化合物制备方法在审
| 申请号: | 201710108328.9 | 申请日: | 2017-02-27 |
| 公开(公告)号: | CN108503568A | 公开(公告)日: | 2018-09-07 |
| 发明(设计)人: | 程景才;顾国林;黄彪 | 申请(专利权)人: | 无锡杰西医药股份有限公司 |
| 主分类号: | C07C331/24 | 分类号: | C07C331/24;C07C331/22;C07C331/20 |
| 代理公司: | 上海一平知识产权代理有限公司 31266 | 代理人: | 马思敏;崔佳佳 |
| 地址: | 214028 江苏省无锡*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 异硫氰酸酯类化合物 制备 后处理 高纯度 异硫氰酸酯化合物 硫代氨基甲酸盐 产物纯度 方法适合 医药工业 有机胺 收率 脱硫 生产 | ||
1.一种式(I)所示的异硫氰酸酯化合物的制备方法,
A-N=C=S (I)
在式I中:
-N=C=S为异硫氰酸酯基;
A为-XR1或-CR2R3R4,其中
X为-(CH2)n-,n为0-6的整数;
R1选自下组:甲基、叔丁基、异丙基、甲硫基、甲氧基、烯丙基、甲代烯丙基、环己基、甲基亚硫酰基、萘基、甲基环己基、吗啉基、二乙基氨基、苯甲酰基、乙氧基羰基、叔辛基、氯原子、三甲基硅基、取代或未取代的苯基;
其中,所述的“取代”指基团中一个或多个H被选自下组的取代基所取代:卤素原子、甲基、溴甲基、乙基、甲氧基、硝基、叠氮基、三氟甲基、二氟甲氧基、甲硫基、氰基、三氟甲氧基、三氟甲硫基、叔丁氧基羰基、乙氧基羰基;
R2、R3、R4各自独立地为H、苯基或C1-3烷基;
其特征在于,所述方法包括步骤:
A-NH2→二硫代氨基甲酸盐→A-N=C=S(I)
(1)在有机溶剂中,在有机碱存在下,用ANH2与CS2反应,得到含有二硫代氨基甲酸盐的第一反应混合物;
(2)在任选的碱催化剂存在下,在所述的第一反应混合物中加入脱硫剂进行脱硫反应,得到含有异硫氰酸酯化合物的第二反应混合物;
(3)对所述的第二反应混合物进行后处理纯化,得到式(I)所示的异硫氰酸酯。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的步骤(1)中,所述的有机溶剂为能够溶解苯乙胺和二硫代氨基甲酸盐且与水不互溶的溶剂;优选地,所述的有机溶剂选自下组:乙酸乙酯、乙酸异丙酯、丙酸甲酯、丙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸异丁酯、丙酸戊酯、丁醇、异丁醇、戊醇、仲戊醇、叔戊醇、3-甲基-2-丁醇、己醇、庚醇、二氯甲烷、二氯乙烷、三氯甲烷、乙醚、石油醚、环己烷,或其组合。
3.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的步骤(1)中,所述的有机碱选自下组:三乙胺、三甲胺、二异丙基乙胺、三乙烯二胺、吡啶、4-N,N-二甲基吡啶、叔丁醇钾、甲醇钠、乙醇钠,羟胺,3-甲基吡啶,吡咯,或其组合。
4.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的步骤(2)中,所述的脱硫剂选自下组:氯甲酸甲酯、对甲苯磺酰氯、固体光气、单质碘、氯硅烷、氯磷酸酯、二环己基碳二亚胺、双氰胺、三苯基膦、二碳酸二叔丁酯、三聚氯氰,或其组合。
5.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的步骤(2)中,所述的碱催化剂选自下组:三乙胺、三乙烯二胺、吡啶、4-二甲氨基吡啶,或其组合。
6.如权利要求1所述的方法,其特征在于,所述的步骤(1)中,ANH2与二硫化碳投料比为1:1.0~10,较佳地为1:1.0~5,更佳地为1:1.05~2;
所述的ANH2与有机碱投料比为1:0.5~5,较优1:0.8~3,更优1:0.9~2;所述的ANH2与乙酸乙酯的质量体积比为10~25%;
所述的步骤(2)中,第一步投料的ANH2与脱硫剂的投料比为1:0.9~5,较佳地为1:0.9~2,更佳地为1:0.95~1.5;和/或
碱催化剂与第一步投料的ANH2投料的质量比为0~4wt%,较佳地为0.01~2wt%,更佳地为0.05~1wt%。
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