[发明专利]用于干法刻蚀的承载装置及干法刻蚀设备

权利要求书

1.一种用于干法刻蚀的承载装置，包括相对设置的上部电极和下部电极，以及设置于所述下部电极上面向所述上部电极的一面的待刻蚀基板，其特征在于，所述下部电极的面积不小于待刻蚀基板的面积；

还包括在所述下部电极的面积大于待刻蚀基板的面积时、围设于待刻蚀基板四周的边框，所述边框包括完全覆盖于所述下部电极未承载待刻蚀基板的区域的第一部分；

所述边框还包括覆盖待刻蚀基板边缘区域的第二部分；

还包括用于控制所述边框升降的升降结构，所述边框还包括外露于所述下部电极的第三部分，所述升降结构包括：

升降部，能够与所述第三部分连接；

驱动部，用于驱动所述升降部在第一状态和第二状态之间转换；

所述第一状态为所述升降部在所述驱动部的驱动下与所述第三部分连接并带动所述边框升降；所述第二状态为在所述边框与所述下部电极接触或所述边框与所述基板边缘区域接触后、所述升降部继续下降以与所述第三部分分离。

2.根据权利要求1所述的用于干法刻蚀的承载装置，其特征在于，所述第二部分为由四个边首尾相接形成的矩形环形结构，每个边的宽度为2mm-3mm。

3.根据权利要求1或2所述的用于干法刻蚀的承载装置，其特征在于，所述边框采用陶瓷材质制成。

4.根据权利要求3所述的用于干法刻蚀的承载装置，其特征在于，所述边框的表面涂覆有氧化钇。

5.根据权利要求1所述的用于干法刻蚀的承载装置，其特征在于，所述升降部为与所述驱动部驱动连接的升降杆，所述第三部分靠近下部电极的一面设置有可供所述升降杆插入的插槽。

6.根据权利要求5所述的用于干法刻蚀的承载装置，其特征在于，所述升降杆为光杆，所述光杆的表面具有经阳极氧化处理形成的金属氧化物薄膜。

7.一种干法刻蚀设备，其特征在于，包括权利要求1-6任一项所述的用于干法刻蚀的承载装置。