[发明专利]成膜方法及使用前述成膜方法的积层体基板的制造方法

说明书

本发明公开成膜方法及使用前述成膜方法的积层体基板的制造方法，具体提供一种能够消除长条状树脂膜的宽度方向的色差而不易发生蚀刻不良的成膜方法。本发明的成膜方法是利用溅镀法等干式镀敷法于在真空室10内以辊对辊方式从卷出辊11搬送至卷取辊24的长条状树脂膜F的两面分别形成第1覆膜及第2覆膜，且在第1次卷取与第2次卷取之间适宜地利用来自离子源29的离子束照射对所述第1覆膜的表面实施干式蚀刻处理，所述第1次卷取是于将所述第1覆膜形成在长条状树脂膜F的一面之后，利用卷取辊24而实施，所述第2次卷取是于将第2覆膜形成在已形成第1覆膜的长条状树脂膜F的另一面之后，利用卷取辊24而实施。

技术领域

本发明涉及一种利用干式镀敷法在以辊对辊方式搬送的长条状树脂膜的两面形成覆膜的方法以及使用前述成膜方法的积层体基板的制造方法。

背景技术

在手机、便携式电子书设备、自动售卖机、汽车导航等电子设备所具备的平板显示器(FPD)的表面设置“触控面板”的技术开始普及。“触控面板”能够大致分为电阻型与静电电容型，“电阻型”的触控面板的主要部分以由树脂膜构成的透明基板、设置于所述基板上的X坐标(或Y坐标)检测电极片及Y坐标(或X坐标)检测电极片、以及设置于这些电极片之间的绝缘体间隔件构成。

这些X坐标检测电极片及Y坐标检测电极片通常是通过绝缘体间隔件而隔开，在用笔等点压时两坐标检测电极片在该部位电接触。由此，能够检测出笔所点触的位置(X坐标、Y坐标)，而形成只要使笔移动便随时识别每一个坐标并且最终能够进行文字输入的机制。

另一方面，“静电电容型”的触控面板具有如下构造：X坐标(或Y坐标)检测电极片与Y坐标(或X坐标)检测电极片隔着绝缘片而积层，还在其上配置着玻璃等绝缘体。而且，成为如下机制：在将手指靠近该玻璃等绝缘体时，其附近的X坐标检测电极与Y坐标检测电极的电容发生变化，因此能够进行位置检测。

作为形成于所述电极片(也称为电极基板膜)上的具有指定电路图案的电极用导电材料，以往，广泛使用如专利文献1所公开的ITO(氧化铟-氧化锡)等的透明导电膜。另外，随着触控面板的大型化，也开始使用如专利文献2及专利文献3等所公开的由金属制细线构成的网眼构造的金属膜。

在将所述透明导电膜与金属制细线(金属膜)进行比较的情况下，透明导电膜由于在可见波长区域的透过性优异，所以具有几乎不会视认到电极等电路图案的优点，但由于电阻值比金属制细线(金属膜)高，所以具有不利于触控面板的大型化及响应速度的高速化的缺点。另一方面，金属制细线(金属膜)由于电阻值低，所以有利于触控面板的大型化及响应速度的高速化，但由于在可见波长区域的反射率高，所以即使加工为微细的网眼构造，有时在高亮度照明下也会视认到电路图案，而具有使产品价值降低的缺点。

因此，在专利文献4及专利文献5中，为了发挥电阻值低的所述金属制细线(金属膜)的特性，提出如下方法：在由树脂膜构成的透明基板与金属制细线的金属膜之间介置由金属氧化物构成的金属吸收层(也称为黑化膜)，从而降低从透明基板侧观测的金属制细线(金属膜)的反射。

在具备由所述金属氧化物构成的金属吸收层的电极片的制作中，从谋求金属氧化物的成膜效率的高效率化的观点来讲，通常进行如下操作，由此制作出成为电极基板膜的基材的积层体基板，所述操作即：通过在反应性气体环境下使用金属靶材(金属材)进行反应性溅镀，而在连续搬送的长条状树脂膜的表面连续形成金属吸收层，然后通过在惰性气体环境下使用铜等金属靶材(金属材料)进行溅镀，而在所述金属吸收层上连续形成金属层。然后进行如下操作：通过利用氯化铜水溶液或氯化铁水溶液等蚀刻液对由这些金属吸收层及金属层构成的积层膜进行蚀刻处理，而在所述积层膜(金属吸收层及金属层)图案化加工电极等的电路图案。

因此，对于成为电极基板膜的基材的积层体基板要求如下特性：由金属吸收层及金属层构成的积层膜易于利用氯化铜水溶液或氯化铁水溶液等蚀刻液而被蚀刻的特性、以及通过所述蚀刻而被图案化加工后的电极等的电路图案在高亮度照明下不易被视认的特性。

[背景技术文献]