[发明专利]一种制备光学纯的(R)-4-正丙基-二氢呋喃-2(3H)-酮的方法

权利要求书

1.一种制备光学纯的(R)4-正丙基-二氢呋喃-2(3H)-酮的方法，包括如下步骤：

(1)制备式(V)所示的光学纯(R)-2-取代的戊醇(V)化合物；

(2)式(V)在氧化条件下将双键或三键氧化关环制得光学纯(R)-4-正丙基-二氢呋喃-2(3H)-酮，并且在式(V)转化为式(I)的反应过程中，手性中心构型不发生变化；

所述R是-CH＝CR¹R²或-C≡CR³，R¹、R²、R³独立为氢或C_1-20烷基；

所述步骤(1)中制备式(V)的方法步骤为：A)式(II)所示光学纯的(S)-3-正戊酰基-4-取代的噁唑-2-酮与式(III)所示的带有离去基的烯烃或炔烃化合物在碱性试剂的存在下发生烷基取代反应，生成式(IV)所示的化合物，并且在反应过程中，式(IV)中新生成的手性中心的立体构型与式(II)中的手性中心立体构型相反；B)式(IV)所示化合物在还原剂存在的条件下制备光学纯的(R)-2-取代的戊醇(V)，同时回收如通式(VI)所示作为手性辅基的(S)-4-取代的噁唑-2-酮衍生物，

X是C_1-20烷基、C_1-20链烯基、苯基或苄基，Y是选自卤素、磺酸酯基团、-S⁺Me₂或-N₂⁺的离去基团，

所述还原剂为硼氢化锂、硼氢化钠或硼氢化钾；

所述式(IV)被还原的反应溶剂为水/四氢呋喃、水/甲醇或水/乙醇的混合溶剂，式(IV)与还原剂的用量摩尔比是1:1.0～2.0，反应温度为0～100℃。

2.根据权利要求1所述的方法，所述氧化采用的氧化试剂体系是高碘酸钠-氯化钌、高碘酸钠-高锰酸钾、高锰酸钾或四氧化锇-N-甲基-N-氧化吗啉-高碘酸钠分步氧化。

3.根据权利要求2所述的方法，所述氧化采用的氧化试剂体系是高碘酸钠-氯化钌时，反应溶剂是水和乙腈的混合物，反应温度是-10～40℃，所述式(V)与高碘酸钠的摩尔比例是1:4～10，式(V)与催化剂氯化钌的摩尔比例是1:0.01～0.5。

4.根据权利要求3所述的方法，反应温度是10～30℃，所述式(V)与高碘酸钠的摩尔比例是1:5～7，式(V)与催化剂氯化钌的摩尔比例是1:0.04～0.1。

5.根据权利要求1所述的方法，其中R¹是氢，R²、R³是氢或C_1-20烷基。

6.根据权利要求5所述的方法，R是-CH＝CH₂或-C≡CH。

7.根据权利要求1所述的方法，X是C_1-6烷基、苯基、或苄基，Y是氟、氯、溴、碘、甲磺酰氧基、三氟甲磺酰氧基或对甲苯磺酰氧基。

8.根据权利要求7所述的方法，X是甲基、乙基、正丙基、异丙基、叔丁基、苄基或苯基。

9.根据权利要求8所述的方法，X是苯基、异丙基或苄基，Y是溴、氟或氯。

10.根据权利要求1所述的方法，所述烷基化采用的碱为二异丙基氨基锂、六甲基二硅基氨基锂、六甲基二硅基氨基钾或六甲基二硅基氨基钠。

11.根据权利要求10所述的方法，所述烷基化的反应溶剂为四氢呋喃或2-甲基四氢呋喃，烷基化的反应温度为-80～20℃，所述式(II)与式(III)的用量摩尔比是1:0.9～5，式(II)与所用碱的用量摩尔比是1:0.9～3。

12.根据权利要求11所述的方法，所述式(II)与式(III)的用量摩尔比是1:1.1～1.5，式(II)与所用碱的用量摩尔比是1:1.0～1.5。