[发明专利]多晶硅、FZ单晶硅以及它们的制造方法有效
| 申请号: | 201710088583.1 | 申请日: | 2017-02-17 | 
| 公开(公告)号: | CN107268079B | 公开(公告)日: | 2021-06-15 | 
| 发明(设计)人: | 宫尾秀一;祢津茂义 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 | 
| 主分类号: | C30B29/06 | 分类号: | C30B29/06;C30B33/02 | 
| 代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 鲁雯雯;金龙河 | 
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 多晶 fz 单晶硅 以及 它们 制造 方法 | ||
1.一种多晶硅,其是在基于西门子法的合成结束后以900~1350℃的温度范围实施5~6小时的热处理、通过该热处理使以密勒指数面111和220作为主面的晶粒生长而得的,所述热处理后的来自密勒指数面111和220的X射线衍射强度与所述热处理前的X射线衍射强度相比均为1.5倍以下。
2.如权利要求1所述的多晶硅,其中,通过所述热处理,所述晶粒的粒径扩大。
3.如权利要求1或2所述的多晶硅,其中,在所述热处理前后热扩散率发生了变化。
4.如权利要求2所述的多晶硅,其中,所述热处理后的平均结晶粒径为所述热处理前的平均结晶粒径的3倍以上。
5.如权利要求3所述的多晶硅,其中,所述热扩散率在生长方向的垂直面上在所述热处理后增加。
6.一种FZ单晶硅的制造方法,其使用权利要求1或2所述的多晶硅棒作为原料。
7.一种FZ单晶硅,其通过权利要求6所述的制造方法而得到。
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