[发明专利]彩膜基板及其制备方法、显示装置和涂胶系统

权利要求书

1.一种制备彩膜基板的方法，其特征在于，在形成透明绝缘层的步骤中，根据与所述彩膜基板配对的阵列基板上的金属膜层的厚度，确定所述透明绝缘层的厚度，

其中，所述透明绝缘层是通过涂胶形成的，且所述形成透明绝缘层的步骤包括：

获取与所述彩膜基板配对的阵列基板上的金属膜层的成膜数据，所述成膜数据包括所述金属膜层的方块电阻；

根据所述成膜数据，确定所述金属膜层的厚度；

根据所述金属膜层的厚度，确定所述透明绝缘层的厚度；

根据所述透明绝缘层的厚度，确定涂胶的压力时间曲线；

根据所述涂胶的压力时间曲线进行涂胶，以形成所述透明绝缘层，

所述透明绝缘层朝向所述阵列基板的面上任意一点到所述金属膜层的垂直距离的最大值与最小值的差值不超过所述最大值的2％。

2.一种彩膜基板，其特征在于，所述彩膜基板是通过权利要求1所述的方法制备的。

3.一种显示装置，其特征在于，包括：

阵列基板；

权利要求2所述的彩膜基板，所述彩膜基板和所述阵列基板是相对设置的；

液晶层，所述液晶层设置于所述阵列基板和所述彩膜基板之间；

其中，所述阵列基板靠近所述彩膜基板的一侧设置有金属膜层，所述彩膜基板靠近所述阵列基板的一侧设置有透明绝缘层，且所述透明绝缘层的厚度是根据所述金属膜层的厚度确定的，

所述彩膜基板包括：

衬底；

黑矩阵层，所述黑矩阵层设置在所述衬底朝向所述阵列基板的一侧，且具有多个开口；

彩色滤光层，所述彩色滤光层设置在所述衬底朝向所述阵列基板的一侧，且在所述黑矩阵层的所述多个开口中；和

透明绝缘层，所述透明绝缘层设置在所述彩色滤光层和所述黑矩阵层远离所述衬底的一侧；

其中，所述透明绝缘层朝向所述阵列基板的面上任意一点到所述金属膜层的垂直距离的最大值与最小值的差值不超过所述最大值的2％。

4.一种涂胶系统，其特征在于，包括：

信息获取模块，用于获取金属膜层的厚度；

透明绝缘层厚度确定模块，用于根据所述金属膜层的厚度确定透明绝缘层的厚度；

涂胶模块，用于根据所述透明绝缘层的厚度进行涂胶，

其中，所述透明绝缘层设置在彩膜基板的一侧，所述金属膜层设置在与所述彩膜基板配对的阵列基板的一侧，且所述透明绝缘层与所述金属膜层相对设置，

其中，所述信息获取模块进一步包括：

成膜数据获取单元，用于获取所述金属膜层的成膜数据，所述成膜数据包括所述金属膜层的方块电阻；

金属膜层厚度确定单元，用于根据所述成膜数据确定所述金属膜层的厚度，

其中，所述涂胶模块进一步包括：

时间压力曲线确定单元，用于根据所述透明绝缘层的厚度确定所述涂胶的时间压力曲线；

涂胶处理单元，用于根据所述时间压力曲线进行所述涂胶。