[发明专利]基板保持状态异常的检查区域自动决定方法及处理装置有效
申请号: | 201710080266.5 | 申请日: | 2017-02-15 |
公开(公告)号: | CN107093570B | 公开(公告)日: | 2020-07-10 |
发明(设计)人: | 佐野洋 | 申请(专利权)人: | 株式会社斯库林集团 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 崔炳哲 |
地址: | 日本京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 保持 状态 异常 检查 区域 自动 决定 方法 处理 装置 | ||
检查基板保持状态异常区域自动决定方法,通过检测基板保持部的旋转开始前后的图像中的浓度变化,在检查基板的保持状态的异常时自动地决定图像中特别重视的检查区域,可减轻工作负担。对于基板保持部的图像中位于被基板保持部适当地保持时的基板的上方的、用于检查基板的保持状态的异常的检查区域,确定被基板保持部正常地保持的状态下的基板的上端面,根据确定的基板的上端面的位置来决定检查区域的上下方向的位置,对决定了上下方向的位置的候选检查区域,求出基板保持部的旋转开始时的浓度,并求出与基板保持部的初始状态下的同一区域的浓度之间的差分绝对值的积分值、即差分图像积分值,根据求出的差分图像积分值来决定检查区域的水平位置。
技术领域
本发明涉及在半导体制造装置等中将基板固定而进行旋转处理的情况下,检查基板是否被基板保持部适当地保持的基板保持检查方法以及使用该基板保持检查方法进行基板处理的基板处理装置,尤其涉及检查基板保持状态异常的检查区域的自动决定方法。
背景技术
作为在半导体制造装置等中对晶片等半导体基板(以下,也简称为基板)实施清洗处理、涂敷处理等各种处理的技术,有一边借助基板保持构件将基板保持为大致水平姿态进行旋转,一边供给处理液进行处理的基板处理装置。对于该基板处理装置,为了能够使基板高速旋转,如图16所示,在与基板W的外周形状对应的圆周上隔开适当的间隔具有多个基板保持构件。该基板保持构件包括:用于将基板保持为固定的状态的固定保持构件101以及用于从装置拆卸基板W时进行开闭的开闭保持构件102。
固定保持构件101具有:固定于基座103的固定轴101a以及固定于固定轴101a的具有鼓状形状且以侧面的凹部支承基板W的周缘部的固定件101b。另外,开闭保持构件102包括:固定于基座103的旋转轴102a以及局部形成有切口102c的鼓状形状的、能够相对于旋转轴102a偏心转动地固定的开闭件102b。
而且,将基板W从装置拆卸时,使该开闭件102b沿旋转轴102a周围转动而使开闭件102b向远离基板W的方向移动,并且使切口部102c成为与基板W相对的状态,从而成为基板保持构件相对于基板W的周缘部的抵接被解除的状态。另一方面,在将基板W固定于装置时,使开闭件102b沿旋转轴102a周围转动而使开闭件102b向靠近基板W的方向移动,并且使切口部102c移动至不与基板W相对的位置。由此,使全部基板保持构件抵接于基板W的周缘部,夹持基板W而保持为水平姿态。
然而,由于基板W搭在开闭件102b的凹部的斜面、固定件101b的凹部的斜面等,存在被基板保持构件保持的基板W的保持变得不充分或者被保持为基板W相对于旋转轴倾斜的状态的情况。在这样的情况下开始基板W的处理时,可能产生基板W由于旋转从基板保持构件脱落而破损或者损坏装置自身等问题。为避免这样的问题,提出了如下的检查装置和检查方法(例如,参照专利文献1):其用照相机拍摄放置于旋转台的圆盘状的被测定物的至少外周部,对拍摄的图像信号进行处理,将图像信息与预先存储在存储部的标准图像信息进行比较来检查位置。
另外,作为这样的装置,还有如下的系统:通过检测基板W和基板保持构件的旋转开始及其之后的拍摄图像的一部分区域的浓度(或亮度。对下面的“浓度”也相同)变化,检查基板的保持状态。将此情况下的拍摄图像的例子示于图17。图17中,对用于高灵敏度地判定基板W和基板保持构件的旋转开始的旋转开始判定区域121以及用于高灵敏度地判定基板的保持状态的异常的夹持异常判定区域122进行定义,尤其从旋转开始判定区域121和夹持异常判定区域122的浓度变化检测基板W和基板保持构件的旋转开始以及基板W的保持状态的异常。
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