[发明专利]半导体装置封装以及半导体封装及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201710073870.5 申请日: 2017-02-10
公开(公告)号: CN107068669B 公开(公告)日: 2019-08-16
发明(设计)人: 许峰诚;陈硕懋;洪瑞斌;郑心圃 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L25/16 分类号: H01L25/16;H01L23/31;H01L23/488;H01L21/50;H01L21/56
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 路勇
地址: 中国台湾新竹科学工*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 装置 封装 以及 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体装置封装,其包括:

第一裸片;

第二裸片;

模塑料,其沿所述第一裸片及所述第二裸片的侧壁延伸;及

重布层RDL,其横向延伸通过所述第一裸片及所述第二裸片的边缘,其中所述RDL包括电连接到所述第一裸片及所述第二裸片的输入/输出I/O接点,其中所述RDL进一步包括将至少所述第一裸片电连接到所述I/O接点的一导线层,其中所述I/O接点的一部份暴露于所述装置封装的侧壁处,且所述导线层与所述I/O接点的一界面延伸至所述装置封装的所述侧壁处。

2.根据权利要求1所述的半导体装置封装,其中所述第一裸片是不含任何晶体管或二极管的集成式无源装置裸片。

3.根据权利要求1所述的半导体装置封装,其中所述第二裸片包括晶体管、二极管或其组合。

4.根据权利要求1所述的半导体装置封装,其中所述I/O接点延伸到与所述RDL相对的所述模塑料的表面。

5.根据权利要求1所述的半导体装置封装,其中所述第二裸片相邻于所述第一裸片。

6.根据权利要求1所述的半导体装置封装,其中所述第二裸片放置于与所述第一裸片相对的所述RDL的侧上。

7.根据权利要求1所述的半导体装置封装,其中由所述模塑料囊封的所有裸片不含任何有源区域。

8.一种半导体封装,其包括:

衬底;

焊接区域,其位于所述衬底上方;及

第一装置封装,其通过所述焊接区域来接合到所述衬底,其中所述第一装置封装包括:

多个无源装置裸片;

第一模塑料,其囊封所述多个无源装置裸片中的至少一者,其中由所述第一模塑料囊封的所有裸片不含任何有源区域;及

第一重布层RDL,其横向延伸通过所述多个无源装置裸片的边缘,其中所述第一RDL将所述多个无源装置裸片电连接到所述衬底。

9.根据权利要求8所述的半导体封装,其中所述第一RDL包括暴露于所述第一装置封装的侧壁处的第一输入/输出I/O接点,且其中所述焊接区域接触所述第一装置封装的所述侧壁处的所述第一I/O接点。

10.根据权利要求9所述的半导体封装,其中所述第一I/O接点包括大体上与所述第一RDL相对的所述第一模塑料的第二表面齐平的第一表面。

11.根据权利要求10所述的半导体封装,其中所述焊接区域进一步接触所述第一I/O接点的所述第一表面。

12.根据权利要求10所述的半导体封装,其进一步包括位于所述第一装置封装上方且接合到所述衬底的第二装置封装,其中所述第二装置封装包括:

多个额外装置裸片;

第二模塑料,其囊封所述多个额外装置裸片中的至少一者;及

第二RDL,其电连接到且横向延伸通过所述多个额外装置裸片的边缘,其中所述第二RDL包括暴露于所述第二装置封装的侧壁处的第二I/O接点,且其中垂直于所述第一I/O接点的所述第一表面的线与所述第二I/O接点相交。

13.根据权利要求12所述的半导体封装,其中所述第一I/O接点接触所述第二I/O接点。

14.根据权利要求8所述的半导体封装,其中所述多个无源装置裸片的第一者放置于与所述多个无源装置裸片的第二者相对的所述第一RDL的侧上。

15.根据权利要求8所述的半导体封装,其进一步包括:

第三RDL,其放置于与所述第一RDL相对的所述第一模塑料的侧上;及

导电通路,其延伸穿过所述第一模塑料且将所述第三RDL电连接到所述第一RDL。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201710073870.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top